[发明专利]设计辅助装置、设计辅助方法及机器学习装置有效

专利信息
申请号: 201880099221.5 申请日: 2018-11-06
公开(公告)号: CN113056742B 公开(公告)日: 2022-06-07
发明(设计)人: 神田光彦;关本安泰 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: G06F30/27 分类号: G06F30/27
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 何立波;张天舒
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 设计 辅助 装置 方法 机器 学习
【说明书】:

设计辅助装置(1)具有:分析部(12),其对包含基板数据(111)和EMC评价数据(112)的学习用数据(110)进行分析而对电磁环境兼容性的变动因素进行学习,该基板数据(111)包含基板及形成于基板的基板图案的信息,该EMC评价数据(112)表示电子设备的电磁环境兼容性的评价结果,该基板被装入至该电子设备;以及评价部(14),其在被输入了新基板数据(121)的情况下,基于通过分析部(12)得到的变动因素的学习结果,确定被装入新基板的电子设备的电磁环境兼容性的变动因素,该新基板数据(121)包含在被装入至电子设备而进行电磁环境兼容性的评价前的基板即新基板形成的基板图案的信息。

技术领域

本发明涉及对装入至电子设备的基板的设计进行辅助的设计辅助装置、设计辅助方法及机器学习装置。

背景技术

电子设备需要满足与EMC(Electromagnetic Compatibility:电磁环境兼容性)相关的标准(以下,称为EMC标准)。因此,在对被安装电子部件而装入至电子设备的基板进行设计时,需要进行考虑以使得满足EMC标准。为了满足EMC标准,EMI(Electro MagneticInterference)及EMS(Electromagnetic Susceptibility)各自需要满足规定值。另外,EMC的测定结果在基板上的电子部件的配置、形成于基板的图案的绕引、宽度、相邻的图案彼此的距离等发生了变化的情况下会受到影响。EMC的测定结果会受到多个因素的影响,因此为了有效地设计出测定结果满足标准的基板,需要与EMC相关的知识及基板设计的经验。

专利文献1中,记载了能够有效地采取安装有电子部件的基板的EMI对策的发明。在专利文献1所记载的发明中,一边使测定位置变化、一边测定从基板辐射的电磁波,针对每个测定位置对测定数据进行分析而计算大于或等于1个特征量。另外,通过群集分析将针对每个测定位置而计算出的特征量进行分类,将分类结果与测定位置一起提示给用户。

专利文献1:国际公开第2014/065032号

发明内容

但是,在专利文献1所记载的发明中,在设计者等用户判断为需要EMI对策的情况下,需要实际制作出采取了对策的基板,再次测定从制作出的基板辐射的电磁波而进行特征量的计算及分类,存在基板的设计变得繁琐这一问题。

本发明就是鉴于上述情况而提出的,其目的在于得到通过能够在实际制作基板前实施EMC的对策,从而能够使基板的设计效率提高的设计辅助装置。

为了解决上述的课题,并达到目的,本发明所涉及的设计辅助装置具有分析部,该分析部对包含基板数据和评价数据的学习用数据进行分析而对电磁环境兼容性的变动因素进行学习,该基板数据包含基板及形成于基板的基板图案的信息,该评价数据表示被装入基板的电子设备的电磁环境兼容性的评价结果。另外,设计辅助装置具有:评价部,其在被输入了新基板数据的情况下,基于通过分析部得到的变动因素的学习结果,确定被装入新基板的电子设备的电磁环境兼容性的变动因素,该新基板数据包含在被装入至电子设备而进行电磁环境兼容性的评价前的基板即新基板形成的基板图案的信息;以及存储部,其对过去输入的大于或等于1个学习用数据进行保存。分析部如果被新输入学习用数据,则将新输入的学习用数据所包含的基板数据所表示的第一基板图案与由存储部保存的学习用数据各自所包含的基板数据所表示的第二基板图案各自相比较,基于比较的结果和与第一基板图案相对应的评价数据及与第二基板图案相对应的评价数据,对变动因素进行学习。

发明的效果

本发明所涉及的设计辅助装置具有下述效果,即,能够在实际制作基板前实施EMC的对策,能够使基板的设计效率提高。

附图说明

图1是表示实施方式1所涉及的设计辅助装置的结构例的图。

图2是用于对EMC评价数据进行说明的图。

图3是表示硬件的结构例的图,该硬件实现本发明所涉及的设计辅助装置。

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