[发明专利]在玻璃基材上选择性蚀刻层或叠层的方法

权利要求书

1.在玻璃基材上沉积一层基本矿物功能层或多层基本矿物功能层叠层的方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

-将可激光交联的基本上有机的光敏树脂的前体液体组合物沉积在基材上，以

-通过激光局部交联该树脂，

-除去非交联的液体组合物，

-在如此涂覆的基材上沉积一层基本矿物功能层或多层基本矿物功能层叠层，然后，

-对组件进行热处理，以使交联的固体树脂燃烧，通过机械作用例如用布擦拭和/或用气体吹气和/或洗涤以完成除去所述树脂和除去覆盖所述树脂的一层基本矿物功能层或多层基本矿物功能层叠层，如果交联的固体树脂图案的宽度最大等于40 µm，则不需要热处理，

从而以与由交联的固体树脂制成的阴模相对应的图案获得一层基本矿物功能层或多层基本矿物功能层叠层。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，使用迈尔棒，涂膜器，旋涂器，通过浸渍等进行光敏树脂的前体液体组合物的沉积。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，光敏树脂的前体液体组合物是可用于光刻的类型，特别地在微电子领域中，并且在溶剂如环戊酮中包含环氧树脂，丙烯酸酯单体和/或低聚物，环氧丙烯酸酯，聚酯丙烯酸酯，聚氨酯丙烯酸酯，聚乙烯吡咯烷酮+EDTA组合物，聚酰胺，聚乙烯醇缩丁醛，重氮萘醌-酚醛清漆型正光敏树脂，在紫外线，红外线或可见光下可交联的任何有机材料，单独或以它们中的多种的混合物使用。

4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，光敏树脂的前体液体组合物以在1至40μm之间的厚度沉积在所述基材上。

5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述交联的固体树脂图案包括宽度在5至20μm之间的线。

6.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，为了除去所述非交联的液体组合物，将所述涂覆的基材浸入所述非交联的液体组合物的良溶剂中，然后萃取，然后将良溶剂精准地喷涂到基材上，然后通过精准地喷涂溶剂来洗涤基材表面，其中溶剂例如异丙醇，以从基材表面和交联的固体树脂图案附近除去良溶剂，然后用气流干燥基材和交联的固体树脂图案，例如氮气或空气的气流。

7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述一层基本矿物功能层或多层基本矿物功能层叠层通过真空下的物理气相沉积（PVD），例如阴极溅射，特别是阴极增强的磁控溅射，蒸发或等离子增强化学气相沉积（PECVD）方法或通过液体途径形成。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述一层基本矿物功能层或多层基本矿物功能层叠层由下述构成：Ag，透明导电氧化物（TCO）例如掺杂锡的氧化铟（ITO），掺杂锌的氧化铟（IZO），ZnO:Al，Ga，锡酸镉，Al，Nb，Cu，Au，Si和N的化合物例如Si₃N₄，输入介电叠层，单独或以它们中的多种的组合使用。

9.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述一层基本矿物功能层或多层基本矿物功能层叠层的厚度至少小于所述交联的固体树脂图案的厚度的十分之一，并且尤其是至多等于到300nm，优选200nm，和最特别地150nm。

10.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述热处理形成所述玻璃基材的热回火的一部分。

11.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述热处理形成所述玻璃基材的弯曲的一部分。

12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，所述弯曲是通过压制进行。