[其他]线圈内置陶瓷基板有效

专利信息
申请号: 201890000503.0 申请日: 2018-05-10
公开(公告)号: CN210519104U 公开(公告)日: 2020-05-12
发明(设计)人: 足立登志郎;中庭正贵 申请(专利权)人: 株式会社村田制作所
主分类号: H05K3/46 分类号: H05K3/46;H01F17/00;H01F17/04;H05K1/02;H05K1/16
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 舒艳君;金雪梅
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 线圈 内置 陶瓷
【权利要求书】:

1.一种线圈内置陶瓷基板,其具有形成有复绕组线圈图案的多个陶瓷层,其特征在于,

在多个所述陶瓷层中的至少一层形成有所述复绕组线圈图案、以及不与所述复绕组线圈图案电连接的虚设图案,

所述复绕组线圈图案与所述陶瓷层的侧边平行地延伸,且绕所述陶瓷层的中心形成为环绕状,

所述虚设图案在形成于相同的陶瓷层上的所述复绕组线圈图案的一部分的延伸方向的延长上与该陶瓷层的侧边平行地形成,

当存在从所述复绕组线圈图案中的最内周的位置向所述陶瓷层的中心引出的引出图案的情况下,所述虚设图案被配置在相对于所述陶瓷层的中心与所述引出图案基本点对称的位置。

2.根据权利要求1所述的线圈内置陶瓷基板,其特征在于,

所述虚设图案配置在如下的位置:相对于通过所述陶瓷层的中心且与所述陶瓷层的规定的侧边平行的线,与所述复绕组线圈图案的一部分基本线对称的位置。

3.根据权利要求1所述的线圈内置陶瓷基板,其特征在于,

所述虚设图案配置在相对于所述陶瓷层的中心与所述复绕组线圈图案中的最内周的图案的一部分基本点对称的位置。

4.根据权利要求2所述的线圈内置陶瓷基板,其特征在于,

所述虚设图案配置在相对于所述陶瓷层的中心与所述复绕组线圈图案中的最内周的图案的一部分基本点对称的位置。

5.根据权利要求1至4中的任一项所述的线圈内置陶瓷基板,其特征在于,

所述虚设图案形成在形成有所述复绕组线圈图案的多个所述陶瓷层中的层叠方向上的最外侧的陶瓷层。

6.根据权利要求1至4中的任一项所述的线圈内置陶瓷基板,其特征在于,

当将在层叠方向上相邻的两个所述陶瓷层设为一组时,在多个组中的至少一组的两个所述陶瓷层之间形成空隙,

在层叠方向上观察时,所述空隙形成在比所述复绕组线圈图案的外周边缘更靠内侧。

7.根据权利要求5所述的线圈内置陶瓷基板,其特征在于,

当将在层叠方向上相邻的两个所述陶瓷层设为一组时,在多个组中的至少一组的两个所述陶瓷层之间形成空隙,

在层叠方向上观察时,所述空隙形成在比所述复绕组线圈图案的外周边缘更靠内侧。

8.根据权利要求6所述的线圈内置陶瓷基板,其特征在于,

在层叠方向上观察时,所述空隙还形成在形成有所述虚设图案的区域的至少一部分。

9.根据权利要求7所述的线圈内置陶瓷基板,其特征在于,

在层叠方向上观察时,所述空隙还形成在形成有所述虚设图案的区域的至少一部分。

10.根据权利要求1至4、7至9中的任一项所述的线圈内置陶瓷基板,其特征在于,

形成有所述复绕组线圈图案的陶瓷层是磁性体层。

11.根据权利要求5所述的线圈内置陶瓷基板,其特征在于,

形成有所述复绕组线圈图案的陶瓷层是磁性体层。

12.根据权利要求6所述的线圈内置陶瓷基板,其特征在于,

形成有所述复绕组线圈图案的陶瓷层是磁性体层。

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