[发明专利]一种采用声波谐振器和碳纳米管的探测器及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201910002036.6 申请日: 2019-01-02
公开(公告)号: CN109708766B 公开(公告)日: 2021-01-15
发明(设计)人: 周长见;王琪 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: G01J5/44 分类号: G01J5/44;B82Y30/00
代理公司: 广州海心联合专利代理事务所(普通合伙) 44295 代理人: 黄为;冼俊鹏
地址: 510000 广*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 采用 声波 谐振器 纳米 探测器 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种采用声波谐振器和碳纳米管的探测器,其特征在于,包括声波谐振器,所述的声波谐振器包括衬底(101),在所述的声波谐振器远离衬底(101)的一侧设有碳纳米管(108);

在所述的声波谐振器和碳纳米管(108)之间设有石墨烯互连层(107);

所述的碳纳米管(108)垂直于声波谐振器的表面;

所述的声波谐振器还包括设置在衬底(101)上的谐振结构,所述的谐振结构包括依次层叠在衬底(101)上的二氧化硅层(103)、底电极(104)、压电薄膜(105)和顶电极(106);所述的衬底(101)在设有谐振结构的位置设有空腔(102);

所述的空腔(102)的截面呈弧形,空腔(102)的中部向底电极(104)的方向凸起。

2.一种根据权利要求1所述采用声波谐振器和碳纳米管的探测器的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:

S0、在衬底(101)上制备底电极(104);

S1、在底电极(104)远离衬底(101)的一侧沉积压电薄膜(105);

S2、在压电薄膜(105)远离底电极(104)的一侧制备顶电极(106);

S3、在顶电极(106)远离压电薄膜(105)的一侧制备石墨烯互连层(107);

S4、通过刻蚀工艺使石墨烯互连层图形化,并使其图形与顶电极(106)重合;

S5、在石墨烯互连层上淀积催化剂(109);

S6、生长碳纳米管(108);

S7、在衬底(101)上围绕谐振结构刻蚀出腐蚀孔,并采用横向刻蚀或气相刻蚀的方法在谐振结构的下方形成空腔(102)。

3.根据权利要求2所述的制造方法,其特征在于,步骤S6中采用化学气相沉积方法生长碳纳米管(108),所述的化学气相沉积方法为等离子体增强型化学气相淀积或热化学气相淀积或微波等离子体化学气相淀积。

4.根据权利要求2所述的制造方法,其特征在于,步骤S5中采用真空蒸发或溅射的方法淀积催化剂(109),所述的催化剂(109)的厚度为0.5nm-10nm。

5.根据权利要求2所述的制造方法,其特征在于,步骤S3中采用转移法或化学气相淀积方法或金属薄膜热退火制备石墨烯互连层;步骤S4中采用干法等离子体刻蚀法刻蚀石墨烯互连层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华南理工大学,未经华南理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910002036.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top