[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，包括衬底基板，位于所述衬底基板上的第一薄膜晶体管，以及与所述第一薄膜晶体管连接的感光传感器；其中，

所述感光传感器位于所述第一薄膜晶体管的漏极之上且与所述漏极电连接；

所述第一薄膜晶体管的导电沟道之上具有金属通过阳极氧化处理形成的绝缘介质部。

2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，形成所述绝缘介质部的金属与所述第一薄膜晶体管的漏极为同一金属层。

3.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1或2所述的阵列基板；所述感光传感器和所述第一薄膜晶体管位于所述显示面板的非显示区域。

4.如权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板为OLED显示面板；所述阵列基板还包括：位于显示区域的发光器件，以及与所述发光器件连接的第二薄膜晶体管，所述第一薄膜晶体管与所述第二薄膜晶体管位于相同膜层。

5.如权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板为LCD显示面板；所述阵列基板还包括：位于显示区域的第三薄膜晶体管，所述第一薄膜晶体管与所述第三薄膜晶体管位于相同膜层。

6.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求3-5任一项所述的显示面板。

7.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：

在衬底基板上依次形成栅极、栅绝缘层和有源层；

在所述有源层上形成金属层图形，所述金属层图形包括源极、漏极以及覆盖导电沟道的区域；

对所述金属层图形中覆盖所述导电沟道的区域进行阳极氧化处理，形成绝缘介质部；

在所述漏极上形成感光传感器。

8.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述对所述金属层图形中覆盖所述导电沟道的区域进行阳极氧化处理，形成绝缘介质部，具体包括：

在所述金属层图形上形成光刻胶层；

对所述光刻胶层进行图形化处理，露出所述金属层图形中覆盖导电沟道的区域；

以图形化处理后的光刻胶层作为遮挡，对所述金属层图形中覆盖所述导电沟道的区域进行阳极氧化处理，形成绝缘介质部。

9.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述以图形化处理后的光刻胶层作为遮挡，对所述金属层图形中覆盖所述导电沟道的区域进行阳极氧化处理，形成绝缘介质部，具体包括：

在常压和室温的条件下，采用柠檬酸溶液，在恒流恒压的模式的下利用电解方式，使所述金属层图形中覆盖所述导电沟道的区域表面形成金属氧化物薄膜。

10.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述在所述漏极上形成感光传感器，具体包括：

在所述漏极上依次形成磷或砷掺杂半导体层、本征半导体层、硼掺杂半导体层以及透明导电氧化物层；

采用同一掩模板进行构图后，对透明导电氧化物层进行湿刻图形化，对所述磷或砷掺杂半导体层、本征半导体层和硼掺杂半导体层进行干刻图形化，形成所述感光传感器。