[发明专利]显示基板、显示装置和显示基板的制造方法在审
| 申请号： | 201910002691.1 | 申请日： | 2019-01-02 |
| 公开（公告）号： | CN109728053A | 公开（公告）日： | 2019-05-07 |
| 发明（设计）人： | 麻清琳;熊正平;江伯軒;冯永安;见帅敏 | 申请（专利权）人： | 绵阳京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L27/32 | 分类号： | H01L27/32;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;张天舒 |
| 地址： | 621000 四川省*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 显示基板 容纳孔 像素 像素界定层 有机发光二极管 基底 显示装置 支撑结构 有机发光二极管型 阵列排布 正投影 混色 制造 包围 | ||
1.一种显示基板，包括基底、位于基底上的像素界定层和呈阵列排布的多个有机发光二极管，像素界定层上设置有多个像素容纳孔，有机发光二极管与像素容纳孔一一对应，有机发光二极管位于对应的像素容纳孔内；其特征在于，
像素界定层背向基底的一侧形成有与像素容纳孔一一对应的多个支撑结构，支撑结构在像素界定层上的正投影包围对应的像素容纳孔。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，支撑结构的平行于基底的截面的形状为矩形。
3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，全部支撑结构连成网格。
4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，全部支撑结构一体成型。
5.一种显示装置，其特征在于，包括根据权利要求1-4任意一项所述的显示基板。
6.一种显示基板的制造方法，其特征在于，包括：
在基底上形成像素界定层，像素界定层上形成有多个像素容纳孔；
在像素界定层背向基底的一侧形成多个支撑结构，支撑结构与像素容纳孔一一对应，支撑结构在像素界定层上的正投影包围对应的像素容纳孔；
在基底上形成有机发光二极管，有机发光二极管与像素容纳孔一一对应，有机发光二极管位于对应的像素容纳孔内。
7.根据权利要求6所述的制造方法，其特征在于，形成像素界定层、形成支撑结构和形成有机发光二极管的步骤具体包括：
在基底的一侧形成多个第一电极；
在基底上有第一电极的一侧形成像素界定层，在像素界定层上形成有与第一电极一一对应的多个像素容纳孔，像素容纳孔使得对应的第一电极的至少部分露出；
在像素界定层背向基底的一侧形成多个支撑结构，支撑结构与像素容纳孔一一对应，支撑结构在像素界定层上的正投影包围对应的像素容纳孔；
通过蒸镀工艺在各像素容纳孔内形成对应的有机功能层；
在有机功能层背向基底的一侧形成第二电极，位于同一像素容纳孔内的第一电极、有机功能层和第二电极构成有机发光二极管。
8.根据权利要求7所述的制造方法，其特征在于，支撑结构的平行于基底的截面的形状为矩形。
9.根据权利要求8所述的制造方法，其特征在于，全部支撑结构连成网格。
10.根据权利要求9所述的制造方法，其特征在于，全部支撑结构一体成型。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
