[发明专利]一种基于二维层状材料的雪崩场效应晶体管及测量装置有效
申请号: | 201910003119.7 | 申请日: | 2019-01-02 |
公开(公告)号: | CN109755307B | 公开(公告)日: | 2021-02-12 |
发明(设计)人: | 缪峰;王肖沐;高安远 | 申请(专利权)人: | 南京大学 |
主分类号: | H01L29/772 | 分类号: | H01L29/772;H01L29/06;G01R31/26 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
地址: | 210008 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 二维 层状 材料 雪崩 场效应 晶体管 测量 装置 | ||
1.一种基于二维层状材料的雪崩场效应晶体管,其特征在于:包括绝缘层(2)、金属电极层、第一二维材料薄膜层(4)、第二二维材料薄膜层(5)和第三二维材料薄膜层(6);金属电极层包括漏电极层(31)、源电极层(32)和栅电极层(33);第一二维材料薄膜层(4)和第三二维材料薄膜层(6)铺设在绝缘层(2)上,第二二维材料薄膜层(5)位于两者堆叠部位之间,源电极层(32)覆盖在第一二维材料薄膜层(4)的非堆叠部位,漏电极层(31)覆盖在堆叠部位上方或者第三二维材料薄膜层(6)的非堆叠部位,栅电极层(33)与绝缘层(2)连接,所述第一二维材料薄膜层(4)为石墨烯;
所述第二二维材料薄膜层(5)为p型二维单晶材料,第三二维材料薄膜层(6)为n型二维单晶材料或所述第二二维材料薄膜层(5)为n型二维单晶材料,第三二维材料薄膜层(6)为p型二维单晶材料。
2.根据权利要求1所述的基于二维层状材料的雪崩场效应晶体管,其特征在于:所述栅电极层(33)位于绝缘层(2)下方。
3.根据权利要求1所述的基于二维层状材料的雪崩场效应晶体管,其特征在于:所述栅电极层(33)位于绝缘层(2)上方,并通过另一绝缘层(2)与所述漏电极层(31)、源电极层(32)和第三二维材料薄膜层(6)连接。
4.根据权利要求1所述的基于二维层状材料的雪崩场效应晶体管,其特征在于:所述栅电极层(33)为两个,一个位于绝缘层(2)下方,另一个位于绝缘层(2)上方,并通过另一绝缘层(2)与所述漏电极层(31)、源电极层(32)和第三二维材料薄膜层(6)连接。
5.根据权利要求1所述的基于二维层状材料的雪崩场效应晶体管,其特征在于:所述绝缘层(2)为二氧化硅层、氧化铝层或氧化铪层。
6.一种雪崩场效应的测量装置,其特征在于:包括权利要求1-5任一项所述的基于二维层状材料的雪崩场效应晶体管、电压源及电流表;源电极层(32)连接电压源的负极并接地,电压源的正极通过电流表连接漏电极层(31),栅电极层(33)连接另一个电压源的正极,两个电压源的负极连接在一起并接地。
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