[发明专利]枢转机构及可挠式电子装置

权利要求书

1.一种枢转机构，其特征在于：所述枢转机构包含：

沿横向摊平且相邻设置的第一支架单元及第二支架单元，所述第一支架单元包括第一活动支架，其具有朝所述第二支架单元延伸的第一顶凸段，及向外凸伸的第一卡制段，所述第二支架单元包括第二活动支架，其具有朝所述第一支架单元延伸的第二顶凸段，及向外凸伸的第二卡制段；及

凸轮，位于所述第一活动支架及所述第二活动支架之间并沿所述横向设置，所述凸轮靠近中央处具有二个在所述横向相间隔的限位孔，且所述凸轮中邻近所述第一活动支架及所述第二活动支架的相对两侧的下端分别形成开口向上的内凹弧面，且所述相对两侧的上端分别形成与所述内凹弧面相连的外扩弧面，且所述外扩弧面分别用于顶推所述第一顶凸段与所述第二顶凸段，所述限位孔分别套设于所述第一卡制段及所述第二卡制段，使得所述第一活动支架与所述第二活动支架能相对枢转，

其中，所述第一活动支架朝所述第二活动支架方向枢转的过程中，所述第一顶凸段从相对应的所述内凹弧面中移出并沿对应的所述外扩弧面滑移，且所述第二活动支架朝所述第一活动支架方向枢转的过程中，所述第二顶凸段从相对应的所述内凹弧面中移出并沿对应的所述外扩弧面滑移，借此在所述第一活动支架与所述第二活动支架之间形成避位空间。

2.根据权利要求1所述的枢转机构，其特征在于：在所述第一活动支架与所述第二活动支架相对靠合的状态下，所述第一活动支架朝远离所述第二活动支架方向枢转的过程中，所述第一顶凸段沿对应的所述外扩弧面滑移并移入相对应的所述内凹弧面；所述第二活动支架朝远离所述第一活动支架方向枢转的过程中，所述第二顶凸段沿对应的所述外扩弧面滑移并移入相对应的所述内凹弧面，而使所述第一活动支架与所述第二活动支架回到摊平且相邻设置的状态。

3.根据权利要求2所述的枢转机构，其特征在于：所述枢转机构适用于安装在承载结构，所述承载结构包括第一基板单元及第二基板单元，所述枢转机构还包含设置于所述第一基板单元与所述第二基板单元之间的第一连动单元及第二连动单元；所述第一活动支架具有连接于所述第一基板单元的第一外端部及靠抵于所述凸轮的第一内端部，所述第一内端部具有所述第一顶凸段及所述第一卡制段；所述第一支架单元还包括

第一固定支架，具有连接于所述第一连动单元的第一连接端，及相反于所述第一连接端的第一固定端，及

第一弹性件，其两相反端分别连接于所述第一固定端及所述第一活动支架的所述第一外端部；

所述第二活动支架具有连接于所述第二基板单元的第二外端部及靠抵于所述凸轮的第二内端部，所述第二内端部具有所述第二顶凸段及所述第二卡制段；所述第二支架单元还包括

第二固定支架，具有连接于所述第二连动单元的第二连接端，及相反于所述第二连接端的第二固定端，及

第二弹性件，其两相反端分别连接于所述第二固定端及第二活动支架的所述第二外端部，

其中，所述第一支架单元与所述第二支架单元彼此相对枢转时，所述第一活动支架及所述第二活动支架会分别相对所述第一固定支架及所述第二固定支架移动而使所述第一弹性件与所述第二弹性件被拉伸并分别提供所述第一活动支架与所述第二活动支架一弹性回复力，使所述第一顶凸段及所述第二顶凸段分别紧迫地靠抵于所述外扩弧面并沿着所述外扩弧面滑移。

4.根据权利要求3所述的枢转机构，其特征在于：所述第一支架单元还具有设置于所述第一固定支架且其端面较所述第一固定支架凸出的第一凸块，所述第一凸块在所述第一活动支架相对于所述第一固定支架滑移时靠抵于所述第一活动支架；所述第二支架单元还具有设置于所述第二固定支架且其端面较所述第二固定支架凸出的第二凸块，所述第二凸块在所述第二活动支架相对于所述第二固定支架滑移时靠抵于所述第二活动支架。

5.根据权利要求3所述的枢转机构，其特征在于：所述第一活动支架形成有第一滑槽，所述第一固定支架具有朝向所述第一活动支架凸伸且穿伸于所述第一滑槽的第一挡止部，所述第一挡止部定位在所述第一滑槽内以限制所述第一活动支架相对于所述第一固定支架滑移的距离；所述第二活动支架形成有第二滑槽，所述第二固定支架具有朝向所述第二活动支架凸伸且穿伸于所述第二滑槽的第二挡止部，所述第二挡止部定位在所述第二滑槽内以限制所述第二活动支架相对于所述第二固定支架滑移的距离。