[发明专利]一种显示面板及其制作方法、显示装置有效
申请号: | 201910005368.X | 申请日: | 2019-01-03 |
公开(公告)号: | CN109742108B | 公开(公告)日: | 2020-12-01 |
发明(设计)人: | 宋文峰 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 张京波;曲鹏 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示 面板 及其 制作方法 显示装置 | ||
1.一种显示面板,其特征在于,包括:衬底基板、设置在所述衬底基板上的至少两种颜色的像素单元以及位于显示面板出光侧的减反射层;
所述减反射层包括阵列排列的减反射结构,所述减反射结构与像素单元一一对应,用于减少与对应像素单元颜色相同的反射光,其中,不同颜色的像素单元对应的减反射结构的厚度不同,所述减反射结构的厚度h满足h=kλ/4,其中,k为正奇数,λ为与减反射结构对应的像素单元的颜色光线的波长。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述减反射结构同层设置。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述减反射结构在衬底基板上的正投影覆盖对应的像素单元在衬底基板上的正投影。
4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括:保护层;
所述保护层包括:阵列排列的保护结构,所述保护结构与所述减反射结构一一对应,设置在对应的减反射结构远离所述衬底基板的一侧。
5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,所述保护结构在衬底基板上的正投影与对应的减反射结构在衬底基板上的正投影重合。
6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述减反射结构的制作材料为光阻材料。
7.根据权利要求4或5所述的显示面板,其特征在于,所述保护结构包括:低折射率层,所述低折射率层的折射率小于1.5。
8.一种显示装置,其特征在于,包括:如权利要求1~7任一项所述的显示面板。
9.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括:
在衬底基板上形成至少两种颜色的像素单元;
在显示面板出光侧形成减反射层,所述减反射层包括阵列排列的减反射结构,所述减反射结构与像素单元一一对应,用于减少与对应像素单元颜色相同的反射光,其中,不同颜色的像素单元对应的减反射结构的厚度不同,所述减反射结构的厚度h满足h=kλ/4,其中,k为正奇数,λ为与减反射结构对应的像素单元的颜色光线的波长。
10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,所述在显示面板出光侧形成减反射层包括:
在显示面板出光侧涂布光阻材料,以形成光阻材料层;
以预设掩模板作为遮挡,利用曝光光线照射所述光阻材料层,形成减反射层;所述曝光光线包括:紫外线。
11.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,所述在显示面板出光侧形成减反射层包括:
采用喷墨打印或纳米转印工艺在显示面板出光侧形成减反射层。
12.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,所述预设掩模板包括:阵列排列的多个区域;
其中,所述区域与所述像素单元相对应,每个区域对应的紫外线的透过率不同,以使得曝光光线透过每个区域照射所述光阻材料层,形成与像素单元对应的减反射结构。
13.根据权利要求12所述的方法,其特征在于,所述以预设掩模板作为遮挡,利用曝光光线照射所述光阻材料层,形成减反射层包括:
利用曝光光线透过预设掩膜板的多个区域照射所述光阻材料层,通过显影工艺对光阻材料层进行处理,形成减反射层。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的