[发明专利]一种激光器在审
| 申请号： | 201910005620.7 | 申请日： | 2019-01-03 |
| 公开（公告）号： | CN109687273A | 公开（公告）日： | 2019-04-26 |
| 发明（设计）人： | 翁文;吴鸿春;李锦辉;林文雄;黄见洪;史斐;戴殊韬;吴丽霞;郑晖;邓晶 | 申请（专利权）人： | 中国科学院福建物质结构研究所 |
| 主分类号： | H01S3/08 | 分类号： | H01S3/08;H01S3/115 |
| 代理公司： | 北京元周律知识产权代理有限公司 11540 | 代理人： | 王惠 |
| 地址： | 350002 福建*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学谐振腔 激光器 输出耦合镜 输入端 平凸镜 电光调Q晶体 单纵模激光 高重复频率 输出 基频激光 激光晶体 激光脉宽 激光透过 结构结合 依次设置 振荡激光 高光束 光学膜 偏振片 窄脉宽 窄线宽 短腔 偶合 凸面 纵模 反射 申请 激发 | ||
1.一种激光器，其特征在于，包括光学谐振腔，所述光学谐振腔包括输入端和输出耦合镜，所述输入端镀有用于使激发激光透过并且使振荡激光形成反射的光学膜；
在所述光学谐振腔内，沿所述输入端至所述输出耦合镜的方向依次设置有激光晶体、偏振片、电光调Q晶体；
其中，所述输出耦合镜为平凸镜，所述平凸镜的凸面朝向所述光学谐振腔。
2.根据权利要求1所述的激光器，其特征在于，所述输入端为所述激光晶体背离所述输出耦合镜的一面；
在所述激光晶体背离所述输出耦合镜的一面镀有第二光学镀膜，所述第二光学镀膜对808nm激光透过率大于95％，对1064nm激光反射率大于99.8％；
所述激光晶体的朝向所述输出耦合镜的一面镀有第五光学镀膜，所述第五光学镀膜对808nm激光的透过率大于95％，对1064nm激光的透过率大于99.5％。
3.根据权利要求1所述的激光器，其特征在于，所述光学谐振腔还包括输入耦合镜，所述输入端为所述输入耦合镜，所述输入耦合镜位于所述激光晶体远离所述输出耦合镜的一侧；
所述输入耦合镜的朝向所述输出耦合镜的一面镀有第二光学镀膜，所述第二光学镀膜对808nm激光透过率大于95％，对1064nm激光反射率大于99.8％；
所述输入耦合镜的背离所述输出耦合镜的一面镀有第一光学镀膜，所述第一光学镀膜对808nm激光透过率大于95％。
4.根据权利要求3所述的激光器，其特征在于，所述光学谐振腔的腔长为30～60mm；
优选地，所述光学谐振腔的腔长为50mm。
5.根据权利要求3所述的激光器，其特征在于，还包括半导体泵浦源，所述半导体泵浦源射出激发激光的波长为808±3nm；
在所述半导体泵浦源和所述输入耦合镜之间还设置耦合透镜组；
优选地，所述耦合透镜组包括至少一个凸透镜，所述耦合透镜组采用K9玻璃或者石英玻璃。
6.根据权利要求3所述的激光器，其特征在于，所述平凸镜的凸面镀有第三光学镀膜，所述第三光学镀膜对1064nm激光反射率为10～50％；
所述平凸镜的平面镀有第四光学镀膜，所述第四光学镀膜对1064nm激光透过率大于99.5％。
7.根据权利要求3所述的激光器，其特征在于，所述激光晶体为掺钕钒酸钇晶体，钕的掺杂浓度为0.3wt％；
所述激光晶体的两个光学端面镀有第五光学镀膜，所述第五光学镀膜对808nm激光的透过率大于95％，对1064nm激光的透过率大于99.5％。
8.根据权利要求7所述的激光器，其特征在于，所述激光晶体的两个光学端面形成1～3°的楔角。
9.根据权利要求3所述的激光器，其特征在于，所述电光调Q晶体包括至少一个RTP晶体；
优选地，所述电光调Q晶体包括两个RTP晶体，分别为第一RTP晶体和第二RTP晶体，所述第一RTP晶体两个电极面的连线方向和所述第二RTP晶体两个电极面的连线方向相互垂直。
10.根据权利要求9所述的激光器，其特征在于，所述电光调Q晶体的光学端面形成1～3°的楔角。
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