[发明专利]一种石墨烯柔性电极及其制备方法有效
申请号: | 201910010197.X | 申请日: | 2019-01-04 |
公开(公告)号: | CN109741881B | 公开(公告)日: | 2020-09-04 |
发明(设计)人: | 李伟伟;卢珂鑫;谷文翠;刘兆平 | 申请(专利权)人: | 宁波石墨烯创新中心有限公司 |
主分类号: | H01B13/00 | 分类号: | H01B13/00;H01B5/14;C03C17/42 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 孙海杰 |
地址: | 315000 浙江省宁*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 石墨 柔性 电极 及其 制备 方法 | ||
1.一种石墨烯柔性电极的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
在基板的一表面形成保护壁;
在基板的未被所述保护壁覆盖的所述表面形成第一高分子层;
在所述第一高分子层的表面形成第一氧化石墨烯层;
在所述第一氧化石墨烯层的表面形成第二高分子层;
还原所述第一氧化石墨烯层得到第一石墨烯层;
去除所述保护壁;其中,所述保护壁的高度大于所述第二高分子层的远离所述基板的表面与所述基板之间的距离。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述氧化石墨烯层中包括羟基、羧基和环氧基中的一种和多种,所述高分子层中包括羧基、氨基、羟基、磺酸基、巯基和季胺基中一种或多种。
3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,在所述第一氧化石墨烯层的表面形成第二高分子层,包括:
在所述第一氧化石墨烯层的表面形成第一导电高分子层;
在所述第一导电高分子层的表面形成第二氧化石墨烯层;
在所述第二氧化石墨烯层的表面形成第二高分子层。
4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,在所述第一高分子层的表面形成第一氧化石墨烯层,包括:
将形成有所述保护壁和所述第一高分子层的基板置于氧化石墨烯分散液内浸泡、取出干燥。
5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述氧化石墨烯分散液内浸泡的时间为0.5-60 min。
6.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述氧化石墨烯分散液的浓度为0.1-20 mg/mL。
7.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,在所述第一氧化石墨烯层的表面形成第一导电高分子层,包括:
将形成有所述保护壁、所述第一高分子层和所述第一氧化石墨烯层的基板置于导电高分子溶液内浸泡、取出干燥。
8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,置于所述导电高分子溶液内浸泡的时间为0.5-60 min。
9.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述导电高分子溶液的浓度为0.1-30mg/mL。
10.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述导电高分子溶液中的导电高分子材料包括聚吡咯、聚对苯撑、聚苯硫醚、聚苯胺、聚苯乙烯、聚噻吩及其衍生物以及导电掺杂高分子材料中的一种或多种。
11.根据权利要求10所述的制备方法,其特征在于,所述导电高分子溶液中的溶剂包括水、醇、酮、烷烃和烷烃衍生物中的一种或多种。
12.根据权利要求1-11任一项所述的制备方法,其特征在于,还原所述第一氧化石墨烯层得到第一石墨烯层,所述还原方法包括:
化学还原法、电化学还原法、微波还原法、紫外光还原法和γ射线还原法中的一种或多种。
13.根据权利要求12所述的制备方法,其特征在于,所述还原方法包括电化学还原法、紫外光还原法和γ射线还原法中的一种或多种。
14.一种石墨烯柔性电极,其特征在于,由权利要求1所述的制备方法制备得到;
所述石墨烯柔性电极包括基板以及图案化的第一高分子层和图案化的第一石墨烯层;
所述基板的一表面从下到上依次为所述第一高分子层和所述第一石墨烯层。
15.根据权利要求14所述的石墨烯柔性电极,其特征在于,所述石墨烯柔性电极还包括第一导电高分子层和第二石墨烯层;
所述基板的一表面从下到上依次为所述第一高分子层、所述第一石墨烯层、所述第一导电高分子层和所述第二石墨烯层。
16.根据权利要求15所述的石墨烯柔性电极,其特征在于,所述第一石墨烯层和所述第二石墨烯层均由氧化石墨烯还原得到。
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