[发明专利]电子装置在审

专利信息
申请号: 201910011183.X 申请日: 2019-01-07
公开(公告)号: CN111413823A 公开(公告)日: 2020-07-14
发明(设计)人: 陈维志;梁志明 申请(专利权)人: 群创光电股份有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/1362
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 中国台湾新竹科学工*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电子 装置
【权利要求书】:

1.一种电子装置,其特征在于,包括:

一第一基板;

一第二基板,与该第一基板相对设置;

一黑色矩阵层,设置于该第一基板与该第二基板间且包括一第一像素区与一第一遮光区,其中该第一像素区与该第一遮光区沿一第一方向交替设置,且该第一像素区包括一第一次像素开口;

一扫描线,设置于该第一基板与该第二基板间,其中该扫描线沿一第二方向延伸,该第一方向与该第二方向不同,且该第一遮光区与该扫描线重叠;以及

一第一色阻及一第二色阻,设置于该第一遮光区,其中该第一色阻与该第二色阻颜色不同且于该第一遮光区内重叠形成一重叠区,且该重叠区于该第二方向上的宽度大于或等于0且小于该第一次像素开口于该第二方向上的宽度的50%。

2.如权利要求1所述的电子装置,其特征在于,其中该电子装置还包括一第一像素色阻,对应设置于该第一次像素开口,其中该第一色阻于该第二方向上的宽度大于该第一次像素开口于该第二方向上的宽度。

3.如权利要求2所述的电子装置,其特征在于,其中该第一色阻于该第二方向上的宽度大于或等于该第一次像素开口于该第二方向上的宽度的1.5倍且小于第二基板的宽度。

4.如权利要求2所述的电子装置,其特征在于,其中该第一像素色阻与该第一色阻颜色相同且相互连接。

5.如权利要求4所述的电子装置,其特征在于,其中该电子装置还包括一第二像素色阻,该第一像素区还包括一第二次像素开口,该第二像素色阻与该第二次像素开口对应设置,该第二像素色阻与该第二色阻颜色相同且相互连接,且该第二色阻于该第二方向上的宽度大于该第二次像素开口于该第二方向上的宽度。

6.如权利要求4所述的电子装置,其特征在于,其中该黑色矩阵层还包括一第二遮光区,该第一遮光区、该第一像素区与该第二遮光区沿一第一方向交替设置,且该第一像素区位于该第一遮光区与该第二遮光区间,该电子装置还包括一第三色阻,该第三色阻设于该第二遮光区,该第三色阻与该第一像素色阻颜色相同且相互连接,且该第三色阻于该第二方向上的宽度大于第一次像素开口于该第二方向上的宽度。

7.一种电子装置,其特征在于,包括:

一第一基板;

一第二基板,与该第一基板相对设置;

一黑色矩阵层,设置于该第一基板与该第二基板间且包括一第一像素区与一第一遮光区,其中该第一像素区与该第一遮光区沿一第一方向交替设置,且该第一像素区包括一第一次像素开口;

一扫描线,设置于该第一基板与该第二基板间,其中该扫描线沿一第二方向延伸,该第一方向与该第二方向不同,且该第一遮光区与该扫描线重叠;以及

一第一色阻,设置于该第一遮光区,其中该第一色阻于该第二方向上的宽度大于或等于该第一次像素开口于该第二方向上的宽度的1.5倍。

8.如权利要求7所述的电子装置,其特征在于,其中该电子装置还包括一第一像素色阻,与该第一次像素开口对应设置,其中该第一色阻于该第二方向上的宽度大于或等于该第一次像素开口于该第二方向上的宽度的2倍且小于第二基板的宽度。

9.如权利要求8所述的电子装置,其特征在于,其中该第一像素色阻与该第一色阻颜色相同且相互连接。

10.如权利要求9所述的电子装置,其特征在于,其中该电子装置还包括一第二像素色阻及一第二色阻,该第一像素区还包括一第二次像素开口,该第二像素色阻与该第二次像素开口对应设置,该第二色阻设置于该第一遮光区,该第二像素色阻与该第二色阻颜色相同且相互连接,且该第二色阻于该第二方向上的宽度大于或等于该第二次像素开口于该第二方向上的宽度的1.5倍。

11.如权利要求10所述的电子装置,其特征在于,其中该黑色矩阵层还包括一第二遮光区,该第一遮光区、该第一像素区与该第二遮光区沿一第一方向交替设置,且该第一像素区位于该第一遮光区与该第二遮光区间,该电子装置还包括一第三色阻,该第三色阻设于该第二遮光区,该第三色阻与该第一像素色阻色相同且相互连接,且该第三色阻于该第二方向上的宽度大于或等于该第一次像素开口于该第二方向上的宽度的1.5倍。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于群创光电股份有限公司,未经群创光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910011183.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top