[发明专利]对比度单发测量装置

权利要求书

1.一种对比度单发测量装置，特征在于其构成包括：楔形分束片(1)、高对比度取样光产生结构(2)、第一反射镜(3)、第一扩束器(4)、第一柱面聚焦元件(5)、二阶非线性晶体(6)、第二反射镜(7)、置于平移台(10)上的第三反射镜(8)和第四反射镜(9)、第五反射镜(11)、第二扩束器(12)、第二柱面聚焦元件(13)、条形衰减片(14)、成像透镜(15)、光谱滤波片(16)和sCMOS相机(17)

入射光经过楔形分束片(1)之后，入射光被分成反射光和透射光，在所述透射光的光路上依次设置高对比度取样光产生结构(2)，第一反射镜(3)，第一扩束器(4)，第一柱面聚焦元件(5)，所述透射光最终经所述第一柱面聚焦元件(5)聚焦入射到一枚二阶非线性晶体(6)中；所述的高对比度取样光产生结构可以基于自衍射效应、交叉偏振波产生和级联四波混频等三阶非线性过程产生高能量高对比度的取样光；在所述反射光的光路上依次设置第二反射镜(7)、置于平移台(10)上的第三反射镜(8)和第四反射镜(9)、第五反射镜(11)，第二扩束器(12)，第二柱面聚焦元件(13)，然后也入射到所述二阶非线性晶体(6)中并与所述反射光重合，所述第三反射镜(8)和第四反射镜(9)位于所述平移台(10)上构成时间延迟线；当所述入射光和所述透射光在时间空间上重合的时候，基于二阶和频效应会在所述二阶非线性晶体(6)产生互相关信号光；所述的互相关信号光依次通过条形衰减片(14)、成像透镜(15)和光谱滤波片(16)，最终入射到一台sCMOS相机(17)。

2.根据权利要求1所述的对比度单发测量装置，特征在于所使用的取样光是基于三阶非线性过程获得，如自衍射效应、交叉偏振波产生和级联四波混频，取样光对比度很高，是待测光的三次方。

3.根据权利要求1所述的对比度单发测量装置，特征在于使用sCMOS相机作为数据采集装置，像素元尺寸小，数据测量的分辨率高。