[发明专利]实时控制器切换在审
申请号: | 201910014851.4 | 申请日: | 2019-01-08 |
公开(公告)号: | CN110032061A | 公开(公告)日: | 2019-07-19 |
发明(设计)人: | 周春鸿;约翰·贝利;达斯汀·布莱尔 | 申请(专利权)人: | 伊鲁米那股份有限公司 |
主分类号: | G05B11/42 | 分类号: | G05B11/42;G01N21/01 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 张瑞;杨明钊 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 组控制参数 样品台 伺服电路 实时控制器 操作模式 成像系统 控制伺服 电路 伺服控制电路 控制致动器 台移动 致动器 耦合到 物镜 应用 扫描 支撑 | ||
1.一种成像系统,包括:
样品台,其包括支撑待由所述成像系统扫描的样品的表面;
具有物镜的光学台,所述光学台能够相对于所述样品台被定位;
致动器,其物理地耦合到所述样品台和所述光学台中的至少一个以相对于所述光学台移动所述样品台;
伺服电路,其控制所述致动器;
第一组控制参数,其控制所述伺服电路;
第二组控制参数,其控制所述伺服电路;以及
伺服控制电路,其当所述成像系统在第一操作模式中操作时将所述第一组控制参数应用于所述伺服电路,并且当所述成像系统在第二操作模式中操作时将所述第二组控制参数应用于所述伺服电路。
2.根据权利要求1所述的成像系统,其中所述伺服控制电路包括检测所述成像系统的操作模式的模式检测电路以及应用与检测到的操作模式相对应的一组控制参数的参数选择电路。
3.根据权利要求1所述的成像系统,其中所述成像系统是测序器,且所述第一操作模式是聚焦模型生成模式,以及所述第二操作模式是测序模式。
4.根据权利要求1所述的成像系统,其中所述伺服控制电路进一步检测所述成像系统的操作模式,并选择一组控制参数以应用于检测到的操作模式。
5.根据权利要求4所述的成像系统,其中所述伺服控制电路应用被识别为对于所述检测到的操作模式的一组控制参数的所述第一组控制参数或所述第二组控制参数。
6.根据权利要求4所述的成像系统,其中所述第一组控制参数和所述第二组控制参数中的至少一组被优化以考虑所述成像系统的结构特征。
7.根据权利要求6所述的成像系统,其中优化所述第一组控制参数和所述第二组控制参数中的至少一组包括操作所述成像系统、用所述第一组控制参数和所述第二组控制参数中的一组控制参数中的一控制参数的一定范围的值进行扫描、测量在所述扫描期间所述伺服电路的稳定性以及选择所述控制参数的值。
8.根据权利要求6所述的成像系统,其中优化所述第一组控制参数和所述第二组控制参数中的至少一组包括操作所述成像系统、用所述第一组控制参数和所述第二组控制参数中的一组控制参数中的多个控制参数的一定范围的值进行扫描、测量在所述扫描期间所述伺服电路的稳定性以及确定所述多个控制参数的最佳设置。
9.根据权利要求1所述的成像系统,其中所述成像系统还包括电耦合到所述光学台的聚焦跟踪电路;并且其中所述伺服控制电路还在所述成像系统在扫描操作模式中操作时启用从所述聚焦跟踪电路到所述伺服电路的反馈,并且在所述成像系统在聚焦模型生成操作模式中操作时禁用从所述聚焦跟踪电路到所述伺服电路的反馈。
10.根据权利要求1所述的成像系统,其中所述控制参数包括伺服回路增益和滤光值。
11.根据权利要求1所述的成像系统,其中所述致动器物理地耦合到所述样品台来移动所述样品台,以调节在所述样品台和所述光学台之间的距离。
12.根据权利要求1所述的成像系统,还包括物理地耦合到所述样品台以调节所述样品台的倾斜的多个致动器。
13.根据权利要求1所述的成像系统,其中所述致动器物理地耦合到所述光学台来移动所述光学台,以调节在所述样品台和所述光学台之间的距离。
14.根据权利要求13所述的成像系统,其中所述致动器包括压电设备、音圈和驱动电机中的至少一个。
15.根据权利要求1所述的成像系统,其中所述样品被包含在流动池中或载玻片上。
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