[发明专利]半导体存储装置及其数据读出方法有效

专利信息
申请号: 201910015555.6 申请日: 2019-01-08
公开(公告)号: CN110880351B 公开(公告)日: 2023-10-27
发明(设计)人: 犬塚雄贵;中里高明 申请(专利权)人: 铠侠股份有限公司
主分类号: G11C16/26 分类号: G11C16/26;G11C16/30;G11C16/08
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 杨林勳
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 存储 装置 及其 数据 读出 方法
【权利要求书】:

1.一种半导体存储装置,其具备存储单元,

该存储单元具有:

第1电阻变化元件,能够在第1状态与电阻值比所述第1状态高的第2状态之间变化;及

第2电阻变化元件,与所述第1电阻变化元件串联连接,能够在第3状态与电阻值比所述第3状态高的第4状态之间变化;且

所述存储单元

在第1阈值电流及第1阈值电压下,发生第1急速折回,

在大于所述第1阈值电流的第2阈值电流、及大于所述第1阈值电压的第2阈值电压下,发生第2急速折回。

2.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其中

关于向所述存储单元流通小于所述第1阈值电流的第1电流时的所述存储单元的两端的电压,在所述第1电阻变化元件为所述第1状态时,其为第1电压,在所述第1电阻变化元件为所述第2状态时,其为大于所述第1电压且小于所述第1阈值电压的第2电压;且

关于向所述存储单元流通大于所述第1阈值电流且小于所述第2阈值电流的第2电流时的所述存储单元的两端的电压,在所述第2电阻变化元件为所述第3状态时,其为第3电压,在所述第2电阻变化元件为所述第4状态时,其为大于所述第3电压且小于所述第2阈值电压的第4电压。

3.根据权利要求1或2所述的半导体存储装置,其中

所述第1及第2电阻变化元件包含沿着积层方向设置的第1及第2电阻变化膜,且

所述存储单元包含沿着积层方向设置的所述第1及第2电阻变化膜、以及选择器层。

4.一种半导体存储装置的数据读出方法,其为根据权利要求2所述的半导体存储装置的数据读出方法,

在对所述存储单元施加第1读出电压时,检测流向所述存储单元的第1读出电流,该第1读出电压大于在所述第1电阻变化元件为所述第1状态之下流通所述第1阈值电流时的所述存储单元的两端的电压,且小于所述第1阈值电压;且

在所述第1读出电流大于第1参考电流的情况下,断定所述第1电阻变化元件为所述第1状态,而依然对所述存储单元施加所述第1读出电压,并将所述第1读出电流与大于所述第1参考电流的第2参考电流加以比较,在所述第1读出电流大于所述第2参考电流的情况下,断定所述第2电阻变化元件为所述第3状态,在所述第1读出电流为所述第2参考电流以下的情况下,断定所述第2电阻变化元件为所述第4状态;

在所述第1读出电流为所述第1参考电流以下的情况下,断定所述第1电阻变化元件为所述第2状态,而对所述存储单元施加大于所述第1阈值电压且小于所述第2阈值电压的第2读出电压,并检测流向所述存储单元的第2读出电流,在所述第2读出电流大于所述第2参考电流的情况下,断定所述第2电阻变化元件为所述第3状态,在所述第2读出电流为所述第2参考电流以下的情况下,断定所述第2电阻变化元件为所述第4状态。

5.一种半导体存储装置的数据读出方法,其为根据权利要求2所述的半导体存储装置的数据读出方法,

检测向所述存储单元流通小于所述第1阈值电流的第1参考电流时在所述存储单元的两端出现的第1读出电压,在所述第1读出电压为第5电压时,断定所述第1电阻变化元件为所述第1状态,在所述第1读出电压为大于所述第5电压的第6电压时,断定所述第1电阻变化元件为所述第2状态,

检测向所述存储单元流通大于所述第1阈值电流且小于所述第2阈值电流的第2参考电流时在所述存储单元的两端出现的第2读出电压,在所述第2读出电压为第7电压时,断定所述第2电阻变化元件为所述第3状态,在所述第2读出电压为大于所述第7电压的第8电压时,断定所述第2电阻变化元件为所述第4状态。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于铠侠股份有限公司,未经铠侠股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910015555.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top