[发明专利]光配向方法及光配向装置在审
申请号: | 201910015782.9 | 申请日: | 2019-01-08 |
公开(公告)号: | CN109491148A | 公开(公告)日: | 2019-03-19 |
发明(设计)人: | 彭林;李广圣;叶宁;戴明鑫;神户诚 | 申请(专利权)人: | 成都中电熊猫显示科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337;G02F1/1335 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 李小波;刘芳 |
地址: | 610200 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 配向 出射光线 彩膜基板 配向装置 阵列基板 反方向移动 曝光操作 曝光区域 偏光板 投影 曝光方向 像素透过 板平行 透光轴 暗纹 基板 偏光 光源 平行 | ||
1.一种光配向方法,其特征在于,包括:
调整光源的出射光线的方向,以使所述出射光线与XOY平面形成第一夹角,且所述出射光线在所述XOY平面上的投影与Y轴形成第二夹角;
调整偏光板的角度,以使所述偏光板平行于所述XOY平面,并且所述偏光板的透光轴平行于所述出射光线在所述XOY平面上的投影;
沿着Y轴的反方向移动阵列基板,以对所述阵列基板进行曝光操作;所述阵列基板上对应一个像素的区域沿着Y轴设置有四个曝光区域,包括第一区域、第二区域、第三区域和第四区域;其中,所述第一区域和第二区域的曝光方向相反,所述第二区域和第三区域的曝光方向相互垂直,所述第四区域和第三区域的曝光方向相反;
将经过180度旋转的彩膜基板沿着Y轴的反方向移动,以对所述彩膜基板进行曝光操作;所述彩膜基板具有与所述阵列基板位置和数量完全一致的曝光区域,且各个曝光区域的曝光方向与所述阵列基板一致。
2.根据权利要求1所述的光配向方法,其特征在于,每一个所述曝光区域均对应设置有一个所述光源以及与该光源配套的所述偏光板;
其中,所述第一区域和第二区域对应的光源出射光线在XOY平面上的投影的方向相反,所述第二区域和第三区域对应的光源出射光线在XOY平面上的投影的方向相互垂直,所述第四区域和第三区域对应的光源出射光线在XOY平面上的投影的方向相反。
3.根据权利要求2所述的光配向方法,其特征在于,每一个所述曝光区域均对应设置有一个掩模版,所述掩模版包括透光区和遮光区,所述透光区与所述曝光区域位置对应。
4.根据权利要求1所述的光配向方法,其特征在于,所述第二夹角的角度范围为30°~60°。
5.根据权利要求1所述的光配向方法,其特征在于,所述第一夹角的角度范围为30°~50°。
6.一种光配向装置,其特征在于,包括:控制器、光源、偏光板以及移动机构;
所述移动机构用于承载和带动阵列基板和彩膜基板中的一个移动;
所述光源设置在所述移动机构的上方,所述偏光板设置在所述移动机构和所述光源之间;
所述控制器,用于:
调整光源的出射光线的方向,以使所述出射光线与XOY平面形成第一夹角,且所述出射光线在所述XOY平面上的投影与Y轴形成第二夹角;以及,
调整偏光板的角度,以使所述偏光板平行于所述XOY平面,并且所述偏光板的透光轴平行于所述出射光线在所述XOY平面上的投影;以及,
控制所述阵列基板沿着Y轴的反方向移动,以对所述阵列基板进行曝光操作;所述阵列基板上对应一个像素的区域沿着Y轴设置有四个曝光区域,包括第一区域、第二区域、第三区域和第四区域;其中,所述第一区域和第二区域的曝光方向相反,所述第二区域和第三区域的曝光方向相互垂直,所述第四区域和第三区域的曝光方向相反;以及,
控制经过180度旋转的所述彩膜基板沿着Y轴的反方向移动,以对所述彩膜基板进行曝光操作;所述彩膜基板具有与所述阵列基板位置和数量完全一致的曝光区域,且各个曝光区域的曝光方向与所述阵列基板一致。
7.根据权利要求6所述的光配向装置,其特征在于,每一个所述曝光区域均对应设置有一个所述光源以及与该光源配套的所述偏光板;
其中,所述第一区域和第二区域对应的光源出射光线在XOY平面上的投影的方向相反,所述第二区域和第三区域对应的光源出射光线在XOY平面上的投影的方向相互垂直,所述第四区域和第三区域对应的光源出射光线在XOY平面上的投影的方向相反。
8.根据权利要求7所述的光配向装置,其特征在于,每一个所述曝光区域均对应设置有一个掩模版,所述掩模版包括透光区和遮光区,所述透光区与所述曝光区域位置对应。
9.根据权利要求6所述的光配向装置,其特征在于,所述第二夹角的角度范围为30°~60°。
10.根据权利要求6所述的光配向装置,其特征在于,所述第一夹角的角度范围为30°~50°。
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