[发明专利]一种空穴注入层墨水、有机电致发光器件及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201910017055.6 申请日: 2019-01-08
公开(公告)号: CN109735167B 公开(公告)日: 2021-11-05
发明(设计)人: 侯文军 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: C09D11/30 分类号: C09D11/30;C09D11/36;H01L51/54;H01L51/50;H01L51/00
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 郭润湘
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 空穴 注入 墨水 有机 电致发光 器件 及其 制作方法
【说明书】:

发明公开了一种空穴注入层墨水、有机电致发光器件及其制作方法,该空穴注入层墨水包括:溶剂材料,以及溶解于所述溶剂材料中空穴传输高分子材料和空穴传输纳米球;所述空穴传输高分子材料和所述空穴传输纳米球均为具有空穴传输特性的有机电子用材料,且所述空穴注入层墨水具有预设接触角。通过在溶剂材料中设置空穴传输纳米球,可以使空穴注入层墨水具有预设接触角,即可以使空穴注入层墨水疏液性,从而可以提高与空穴注入层相邻膜层的成膜均匀性。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,特别涉及一种空穴注入层墨水、有机电致发光器件及其制作方法。

背景技术

有机电致发光器件由于具有环保、节能、高效、寿命长、响应速度快、全固态、抗震性及安全性能好等诸多优点而被广泛应用在照明和显示领域。

有机电致发光器件内膜层的沉积方法主要包括真空蒸镀和溶液制程两种:一种为真空蒸镀,适用于有机小分子,其成膜均匀好,技术相对成熟,但是设备投资大、材料利用率低、大尺寸产品掩膜版对位精度低;二是溶液制程,包括旋涂、喷墨打印、喷嘴涂覆法等,适用于聚合物材料和可溶性小分子,其特点设备成本低,在大规模、大尺寸生产上优势突出。

其中,喷墨打印作为溶液制程最重要技术,具有设备成本低、无尺寸限制、可实现全彩化等优势。喷墨打印时采用像素界定层限定像素大小和墨水流动,同时与墨水性能匹配满足成膜均匀性的需求。成膜工艺过程中,空穴传注入层在像素界定层内成膜后,墨水会在像素界定层上面有一定量的攀爬,在打印空穴传输层时,无法有效控制空穴传输层墨水的攀爬高度,从而影响空穴传输层的成膜均匀性。

因此,如何抑制空穴注入层在像素界定层上的攀爬,以提高空穴传输层的成膜均匀性是本领域技术人员亟待解决的技术问题。

发明内容

本发明实施例提供一种空穴注入层墨水、有机电致发光器件及其制作方法,用以抑制空穴注入层在像素界定层上的攀爬,以提高空穴传输层的成膜均匀性。

本发明实施例提供了一种空穴注入层墨水,包括:溶剂材料,以及溶解于所述溶剂材料中空穴传输高分子材料和空穴传输纳米球;

所述空穴传输高分子材料和所述空穴传输纳米球均为具有空穴传输特性的有机电子用材料,且所述空穴注入层墨水具有预设接触角。

在一种可能实施的方式中,在本发明实施例提供的空穴注入层墨水中,所述空穴传输纳米球的直径为5nm~30nm。

在一种可能实施的方式中,在本发明实施例提供的空穴注入层墨水中,所述空穴传输纳米球浓度占所述空穴传输高分子材料和空穴传输纳米球浓度之和的5%~70%。

在一种可能实施的方式中,在本发明实施例提供的空穴注入层墨水中,所述预设接触角的范围为70°~150°。

在一种可能实施的方式中,在本发明实施例提供的空穴注入层墨水中,所述空穴传输高分子材料包括:聚苯胺高分子材料和/或聚噻吩高分子材料;

所述空穴传输纳米球包括:聚苯胺纳米球和/或聚噻吩纳米球。

在一种可能实施的方式中,在本发明实施例提供的空穴注入层墨水中,所述溶剂材料包括:异丙醇、二乙二醇、N-甲基吡咯烷酮和二乙二醇丁醚之一或组合。

另一方面,本发明实施例还提供了一种有机电致发光器件,位于所述衬底基板上的阳极层,以及位于所述阳极层背离所述衬底基板一侧如上述任一实施例所述空穴注入层墨水形成的空穴注入层。

又一方面,本发明实施例还提供了一种有机电致发光器件的制作方法,包括:

提供一衬底基板;

在所述衬底基板上形成阳极层;

采用喷墨打印的方式在所述阳极层上形成空穴注入层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910017055.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top