[发明专利]多工位水冷靶及其制造方法有效
申请号: | 201910018177.7 | 申请日: | 2019-01-09 |
公开(公告)号: | CN109609918B | 公开(公告)日: | 2019-11-12 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 伟业智芯(北京)科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C23C14/46 |
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地址: | 102101 北京市延庆区康*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 水冷 多工位 靶材 靶体 制造 离子束轰击 部件组装 回水弯管 水冷通道 靶结构 回水管 集水管 进水管 可安装 冷却水 螺旋槽 堵水 六面 套入 焊接 四面 | ||
本发明公开了一种多工位水冷靶及其制造方法,包括制造靶体、集水管、进水管、堵水件、回水管、回水弯管、靶套等。将各部件组装焊接形成多工位水冷靶。由于采用螺旋槽设计的直接水冷通道,并将靶体套入靶套内,安装在靶套表面的靶材由于离子束轰击产生的热量直接由冷却水带走,水准效果好。同时这种设计的水冷靶结构简单,可实现四面、五面、六面、八面等形式,可安装多种不同靶材。
技术领域
本发明涉及离子束镀膜技术领域,尤其涉及一种多工位水冷靶及其制造方法。
背景技术
离子束溅射淀积镀膜技术为科学研究与生产提供了薄膜涂覆的新工艺、新技术,为当今迅速发展的薄膜集成电路、薄膜传感器、磁性薄膜器件、高温合金导体薄膜等广泛的应用领域提供了新的技术手段。随着离子束镀膜技术的飞速发展,以及应用领域的不断扩展和延伸,离子束溅射沉积镀膜方法与设备得到了很大的提高。水冷靶是离子束溅射镀膜设备的重要部件,通过在水冷靶体上安装各种靶材,离子束轰击靶材,溅射出靶材原子沉积在工件上完成离子束镀膜工艺。
现有的离子束溅射淀积镀膜设备水冷靶结构复杂,水冷效果不理想,离子束轰击靶材一定时间后,靶材升温快,影响镀膜质量。
因此,开发一种结构简单,水冷效果好的多工位水冷靶极其重要。
发明内容
本发明的目的在于针对上述问题,提供一种多工位水冷靶及其制造方法,以实现结构简单、水冷效果好等优点。
为解决以上技术问题,本发明的技术方案是:一种多工位水冷靶制造方法,包括以下步骤:
S1.采用机械加工方法制造圆柱形外表带螺旋槽的靶体,所述靶体一端中心位置加工有直径较大的靶体第二开口,穿过所述靶体第二开口的中心位置加工有直径较小的靶体第四开口,在所述靶体第四开口同一端边缘加工有贯通螺旋槽出口的靶体第一开口,在所述靶体第四开口另一端边缘加工有贯通螺旋槽入口的靶体第三开口;
S2.采用机械加工的方法制造圆柱体靶套,所述靶套内部加工有与所述靶体外径吻合的圆形通孔靶套开口;
S3.采用机械加工的方法制造外径与所述靶体的靶体第二开口内径吻合的、上端侧位加工有集水管第一开口、中心加工有集水管第二开口的集水管;
S4.采用机械加工的方法制造外径与所述靶体的靶体第四开口内径吻合的、上端带有进水弯管的进水管;
S5.采用机械加工的方法制造堵水件,所述堵水件外径与所述集水管的集水管第二开口内径吻合,所述堵水件中心开有内径与所述进水管外径吻合的通孔堵水件第一开口,所述堵水件边缘开有另一通孔堵水件第二开口;
S6.采用机械加工的方法制造回水管和回水弯管;
S7.将所述进水管插入靶体第四开口,所述进水弯管末端插入靶体第三开口,在所述靶体第三开口和靶体第四开口周围进行圆周密封焊接;
S8.将所述回水弯管一端插入所述集水管的集水管第一开口中,并在接合处进行圆周密封焊接;
S9.将焊接有回水弯管的所述集水管一端插入靶体的靶体第二开口并在接合处进行圆周密封焊接;将所述回水弯管的另一端插入靶体第一开口,并在接合处进行圆周密封焊接;
S10.将所述回水管插入所述堵水件的堵水件第二开口并在接合处进行圆周密封焊接;
S11.将焊接有回水管的所述堵水件插入所述集水管的集水管第二开口内,并在接合处进行圆周密封焊接;将所述进水管与所述堵水件的堵水件第一开口接合处进行圆周密封焊接;
S12.将焊接好集水管、进水管、堵水件、回水管和回水弯管的靶体套入所述靶套的靶套开口内,并在上下端的接合处进行圆周密封焊接,这样形成了多工位水冷靶。
所述靶体的螺旋槽从螺旋槽入口到螺旋槽出口是贯通的。
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