[发明专利]具有减少偏振旋转的偏振多路复用器或多路分配器有效
申请号: | 201910018647.X | 申请日: | 2019-01-09 |
公开(公告)号: | CN110068891B | 公开(公告)日: | 2021-12-21 |
发明(设计)人: | H.山田 | 申请(专利权)人: | 朗美通经营有限责任公司 |
主分类号: | G02B6/12 | 分类号: | G02B6/12;G02B6/125;G02B6/126 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 贺紫秋 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 减少 偏振 旋转 多路复用 分配器 | ||
1.一种光学装置,包括:
基于波导的马赫-曾德尔干涉仪,即MZ干涉仪,用于执行偏振多路复用或多路分配,基于波导的MZ干涉仪包括:
第一MZ臂,
其中第一MZ臂的一部分在多个应力降低沟槽中的至少两个应力降低沟槽之间,
其中多个应力降低沟槽在基板上的包层中;且
其中所述至少两个应力降低沟槽降低第一MZ臂的所述一部分中的应力;
第二MZ臂,在第一MZ臂附近;
其中与第二MZ臂相比,所述至少两个应力降低沟槽每一个更靠近第一MZ臂;和
一组应力平衡沟槽,
其中所述一组应力平衡沟槽在第二MZ臂的与所述多个应力降低沟槽相反的一侧,且
其中所述一组应力平衡沟槽在基板上的包层中。
2.如权利要求1所述的光学装置,其中所述一组应力平衡沟槽使得第二MZ臂的一部分上的应力基本上对称。
3.如权利要求1所述的光学装置,其中所述一组应力平衡沟槽使得与第二MZ臂关联的偏振轴线基本上被保持。
4.如权利要求1所述的光学装置,其中包括在所述一组应力平衡沟槽中的沟槽数量匹配包括在多个应力降低沟槽中的沟槽数量。
5.如权利要求1所述的光学装置,其中所述一组应力平衡沟槽中的每一个的形状匹配所述多个应力降低沟槽中的每一个的形状。
6.如权利要求1所述的光学装置,其中所述一组应力平衡沟槽中的每一个的长度匹配所述多个应力降低沟槽中的每一个的长度。
7.如权利要求1所述的光学装置,其中所述一组应力平衡沟槽中的每一个的宽度匹配所述多个应力降低沟槽中的每一个的宽度。
8.如权利要求1所述的光学装置,其中所述一组应力平衡沟槽和所述多个应力降低沟槽布置为相对于第二MZ臂对称。
9.如权利要求1所述的光学装置,其中所述一组应力平衡沟槽包括两个应力平衡沟槽。
10.如权利要求9所述的光学装置,其中所述至少两个应力降低沟槽之间的距离匹配所述两个应力平衡沟槽之间的距离。
11.如权利要求1所述的光学装置,其中所述一组应力平衡沟槽中的应力平衡沟槽和第二MZ臂之间的距离匹配所述多个应力降低沟槽中的应力降低沟槽和第二MZ臂之间的距离。
12.如权利要求1所述的光学装置,其中所述一组应力平衡沟槽中的应力平衡沟槽和第二MZ臂之间的距离为约30微米到约250微米的范围。
13.一种光学装置,包括:
马赫-曾德尔干涉仪,即MZ干涉仪,包括:
第一MZ臂,
其中第一MZ臂的一部分在一对第一沟槽之间,
其中该一对第一沟槽在基板上的包层中;
第二MZ臂,在第一MZ臂附近,
其中该一对第一沟槽中的第一沟槽在第二MZ臂和第一MZ臂之间;和
其中与第二MZ臂相比,第一沟槽更靠近第一MZ臂;和
至少一个第二沟槽,其使得第二MZ臂的一部分上的应力基本上对称,使得在第二MZ臂中基本上保持偏振轴线的取向,
其中所述至少一个第二沟槽在基板上的包层中。
14.如权利要求13所述的光学装置,其中所述至少一个第二沟槽在第二MZ臂的与该一对沟槽相反的一侧。
15.如权利要求13所述的光学装置,其中所述至少一个第二沟槽包括至少一个应力平衡沟槽。
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