[发明专利]具有反应相涂层的带槽的陶瓷涂层及形成其的方法在审
| 申请号： | 201910020037.3 | 申请日： | 2019-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN110016666A | 公开（公告）日： | 2019-07-16 |
| 发明（设计）人： | H.克沙文;B.A.普里查德;C.A.赫尔;A.J.库尔卡尼;M.S.伊德尔基克;B.P.布莱 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | C23C28/04 | 分类号： | C23C28/04 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 蔡宗鑫;谭祐祥 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 陶瓷涂层 反应相 涂覆 环境污染物 带槽的 基底 陶瓷涂层材料 限定表面 组合物层 抵抗性 节段 改进 | ||
1.一种涂覆的构件，包括：
限定表面的基底；
设置在所述基底的所述表面上的陶瓷涂层；以及
沿着所述陶瓷涂层设置的反应相涂层，
其中所述陶瓷涂层包括设置在所述陶瓷涂层中的多个槽，所述多个槽形成陶瓷涂层材料的多个节段。
2.根据权利要求1所述的涂覆的构件，其特征在于，所述陶瓷涂层还包括设置在所述陶瓷涂层中的一个或更多个冷却孔，并且其中所述槽相对于所述一个或更多个冷却孔设置，使得所述槽不经过所述一个或更多个冷却孔中的任一个。
3.根据权利要求1所述的涂覆的构件，其特征在于，所述涂覆的构件还包括在所述陶瓷涂层上的环境污染物组合物层，并且其中所述反应相涂层直接施加在所述环境污染物组合物层上。
4.根据权利要求3所述的涂覆的构件，其特征在于，所述环境污染物组合物层包含钙-镁-铝-硅酸盐(CMAS)的组合。
5.根据权利要求1所述的涂覆的构件，其特征在于，所述基底包括超级合金。
6.根据权利要求1所述的涂覆的构件，其特征在于，所述陶瓷涂层为热障涂层(TBC)。
7.根据权利要求5所述的涂覆的构件，其特征在于，所述陶瓷涂层包括钇稳定的氧化锆、稀土稳定的氧化锆组合物、莫来石、氧化铝、二氧化铈、稀土锆酸盐、稀土氧化物、金属-玻璃复合材料或它们的组合。
8.根据权利要求1所述的涂覆的构件，其特征在于，所述反应相涂层包括保护剂，其中所述保护剂包括陶瓷氧化物，所述陶瓷氧化物包括铝、稀土元素或它们的混合物。
9.根据权利要求1所述的涂覆的构件，其特征在于，所述陶瓷涂层限定具有表面粗糙度的表面，其中所述反应相涂层具有大于所述陶瓷涂层的所述表面粗糙度的厚度。
10.根据权利要求1所述的涂覆的构件，其特征在于，所述多个槽中的各个独立槽具有大约10微米到大约200微米的宽度和大约50微米到大约1000微米的深度。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于通用电气公司，未经通用电气公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910020037.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
