[发明专利]一种低维有机纳米材料的聚集结构的制备方法在审
| 申请号： | 201910020111.1 | 申请日： | 2019-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN109851555A | 公开（公告）日： | 2019-06-07 |
| 发明（设计）人： | 谷建民;张自明;李四横;尹百鹏;钟金玲 | 申请（专利权）人： | 燕山大学 |
| 主分类号： | C07D215/30 | 分类号： | C07D215/30;C07C15/38;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 刘奇 |
| 地址： | 066000 河北*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 有机纳米材料 反溶剂 低维 化合物溶液 制备 挥发容器 溶剂 纳米材料技术 复杂结构 合成体系 挥发装置 支撑部件 添加量 构建 挥发 基底 封闭 成功 | ||
1.一种低维有机纳米材料的聚集结构的制备方法，包含如下步骤：
(1)构建挥发装置：所述挥发装置包含挥发容器，所述挥发容器底部放置支撑部件，支撑部件之上放置基底；
(2)将化合物溶液添加到基底上，将反溶剂添加到挥发容器底部，且反溶剂的添加量不超过支撑部件的高度；
所述反溶剂的表面张力小于化合物溶液中所使用溶剂的表面张力；
(3)所述化合物溶液和反溶剂添加完毕之后立即封闭所述挥发容器，静置，待化合物溶液中的溶剂和反溶剂挥发完全之后得到低维有机纳米材料的聚集结构。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述基底为玻璃片或硅片。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述化合物溶液的溶剂为沸点在30～80℃之间的低沸点溶剂。
4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述低沸点溶剂为二氯甲烷、三氯甲烷或四氢呋喃。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述化合物溶液中的化合物为相对分子质量为100～1000的有机小分子化合物。
6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述化合物溶液中的化合物为8-羟基喹啉铝或红荧烯。
7.根据权利要求3～6任意一项所述的制备方法，其特征在于，所述化合物溶液的浓度为1～5mmol/L。
8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述反溶剂为四氢呋喃、乙醚、丙酮、N,N-二甲基甲酰胺、乙酸乙酯、乙醇、正丙醇、异丙醇或正己烷。
9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述化合物溶液和反溶剂的体积比为1:(20～30)。
10.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述静置的时间为8～12h。
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