[发明专利]一种掩膜单元及其制作方法、掩膜版

权利要求书

1.一种掩膜单元的制作方法，其特征在于，包括：

获取张网拉伸模拟位移数据；

根据张网拉伸模拟位移数据计算掩膜单元的掩膜开口的偏移量；

根据掩膜开口的偏移量以及预设掩膜开口位置在掩膜单元本体上形成掩膜开口，以使在张网拉伸后所述掩膜单元的掩膜开口位于预设掩膜开口位置；

其中，所述获取张网拉伸模拟位移数据，包括：形成掩模开口位于预设掩模开口位置的标准掩膜单元；将所述标准掩膜单元进行张网拉伸，获取所述张网拉伸模拟位移数据；

根据掩膜开口的偏移量以及预设掩膜开口位置在掩膜单元本体上形成掩膜开口，以使在张网拉伸后所述掩膜单元的掩膜开口位于预设掩膜开口位置，包括：

根据所述掩膜开口的偏移量获取与所述偏移量大小相同、方向相反的反向补偿量；

将所述预设掩膜开口位置偏移所述反向补偿量的位置作为掩膜单元的掩膜开口位置，以使张网拉伸后所述掩膜单元的掩膜开口位于预设掩膜开口位置。

2.根据权利要求1所述的掩膜单元的制作方法，其特征在于，将所述标准掩膜单元进行张网拉伸，获取所述张网拉伸模拟位移数据，包括：

将所述标准掩膜单元进行张网拉伸，并获取所述标准掩膜单元的张网拉伸模拟位移图像；

根据所述张网拉伸模拟位移图像获取所述张网拉伸模拟位移数据。

3.根据权利要求1所述的掩膜单元的制作方法，其特征在于，根据张网拉伸模拟位移数据计算掩膜单元的掩膜开口的偏移量，包括：

在所述标准掩膜单元上选取多个掩膜开口测试点；

根据所述标准掩膜单元的张网拉伸模拟位移数据，获取所述多个掩模开口测试点的偏移量；

根据所述多个掩膜开口测试点的偏移量获取所有掩膜开口的偏移量。

4.根据权利要求3所述的掩膜单元的制作方法，其特征在于，根据所述多个掩膜开口测试点的偏移量获取所有掩膜开口的偏移量，包括：

根据所述多个掩膜开口测试点的偏移量，形成预设掩膜开口位置-偏移量的关系曲线图；

根据所述预设掩膜开口位置-偏移量的关系曲线图，获取各掩膜开口的偏移量。

5.一种掩膜单元，其特征在于，包括：掩膜单元本体；

所述掩膜单元本体包括至少一个掩膜开口；所述掩膜开口根据下述掩膜单元的制作方法形成：

获取张网拉伸模拟位移数据；

根据张网拉伸模拟位移数据计算掩膜单元的掩膜开口的偏移量；

根据掩膜开口的偏移量以及预设掩膜开口位置在掩膜单元本体上形成掩膜开口，以使在张网拉伸后所述掩膜单元的掩膜开口位于预设掩膜开口位置；

其中，所述获取张网拉伸模拟位移数据，包括：形成掩模开口位于预设掩模开口位置的标准掩膜单元；将所述标准掩膜单元进行张网拉伸，获取所述张网拉伸模拟位移数据；

根据掩膜开口的偏移量以及预设掩膜开口位置在掩膜单元本体上形成掩膜开口，以使在张网拉伸后所述掩膜单元的掩膜开口位于预设掩膜开口位置，包括：

根据所述掩膜开口的偏移量获取与所述偏移量大小相同、方向相反的反向补偿量；

将所述预设掩膜开口位置偏移所述反向补偿量的位置作为掩膜单元的掩膜开口位置，以使张网拉伸后所述掩膜单元的掩膜开口位于预设掩膜开口位置。

6.根据权利要求5所述的掩膜单元，其特征在于：

在沿张网拉伸方向上，包括多个显示面板蒸镀区，每个所述显示面板蒸镀区包括垂直于张网拉伸方向上的多列子像素位置开口；

每个所述显示面板蒸镀区的各列子像素位置开口中，每列子像素位置开口中相邻两个子像素位置开口之间的间距，在沿张网拉伸方向上，由中间区域至边缘区域逐渐减小。

7.一种掩膜版，其特征在于，包括多个权利要求5-6任一所述的掩膜单元；多个所述掩膜单元沿垂直于张网拉伸方向依次焊接在掩膜版框架上。