[发明专利]一种薄膜晶体管器件、驱动电路及显示装置在审
申请号: | 201910020460.3 | 申请日: | 2019-01-09 |
公开(公告)号: | CN111430446A | 公开(公告)日: | 2020-07-17 |
发明(设计)人: | 杨凤云;卓恩宗 | 申请(专利权)人: | 惠科股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06;H01L29/41;H01L29/861 |
代理公司: | 深圳中一专利商标事务所 44237 | 代理人: | 高星 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安区石岩街道水田村民*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 薄膜晶体管 器件 驱动 电路 显示装置 | ||
1.一种薄膜晶体管器件,其特征在于,包括:
衬底;
设于所述衬底的栅极层,其中,所述衬底的表面包括第一预设区域和第二预设区域,所述栅极层设于所述衬底表面的第一预设区域;
设于所述栅极层的阻挡层,其中,所述阻挡层设于所述栅极层表面以及所述衬底表面的第二预设区域;
设于所述阻挡层表面的有源层,所述有源层表面包括第三预设区域和第四预设区域,所述第三预设区域与所述第四预设区域互不接触;
设于所述有源层表面的源极势垒层和漏极势垒层,其中,所述源极势垒层包括至少两层掺杂浓度不同的源极掺杂层,所述漏极势垒层包括至少两层掺杂浓度不同的漏极掺杂层,所述源极势垒层位于所述有源层表面的第三预设区域,所述漏极势垒层位于所述有源层表面的第四预设区域;
设于所述源极势垒层表面的源极层;以及
设于所述漏极势垒层表面的漏极层。
2.如权利要求1所述的薄膜晶体管器件,其特征在于,所述源极势垒层包括:
设于所述有源层表面的第一源极掺杂层,其中,所述第一源极掺杂层位于所述有源层表面的第三预设区域;
设于所述第一源极掺杂层表面的第二源极掺杂层;
设于所述第二源极掺杂层表面的第三源极掺杂层;以及
设于所述第三源极掺杂层表面的第四源极掺杂层;
所述第一源极掺杂层、所述第二源极掺杂层、所述第三源极掺杂层以及所述第四源极掺杂层的掺杂浓度互不相同。
3.如权利要求2所述的薄膜晶体管器件,其特征在于,所述第一源极掺杂层具有第一源极掺杂浓度,所述第二源极掺杂层具有第二源极掺杂浓度,所述第三源极掺杂层具有第三源极掺杂浓度,所述第四源极掺杂层具有第四源极掺杂浓度;
所述第一源极掺杂浓度小于所述第二源极掺杂浓度,所述第二源极掺杂浓度小于所述第三源极掺杂浓度,所述第三源极掺杂浓度小于所述第四源极掺杂浓度。
4.如权利要求1所述的薄膜晶体管器件,其特征在于,所述漏极势垒层包括:
设于所述有源层表面的第一漏极掺杂层,所述第一漏极掺杂层位于所述有源层表面的第四预设区域;
设于所述第一漏极掺杂层表面的第二漏极掺杂层;
设于所述第二漏极掺杂层表面的第三漏极掺杂层;以及
设于所述第三漏极掺杂层表面的第四漏极掺杂层;
所述第一漏极掺杂层、所述第二漏极掺杂层、所述第三漏极掺杂层以及所述第四漏极掺杂层的掺杂浓度互不相同。
5.如权利要求1所述的薄膜晶体管器件,其特征在于,所述阻挡层包括氮化硅、二氧化硅中的至少一项。
6.如权利要求1所述的薄膜晶体管器件,其特征在于,所述源极掺杂层为N型掺杂。
7.如权利要求1所述的薄膜晶体管器件,其特征在于,所述有源层为非晶硅。
8.如权利要求7所述的薄膜晶体管器件,其特征在于,所述非晶硅为氢化非晶硅。
9.一种驱动电路,其特征在于,所述驱动电路包括如权利要求1-8任一项所述的薄膜晶体管器件。
10.一种显示装置,其特征在于,包括:
显示面板;以及
控制单元,所述控制单元与所述显示面板电性连接;其中,所述显示面板包括如权利要求1-8任一项所述的薄膜晶体管器件。
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