[发明专利]一种翘起结构的制备方法

权利要求书

1.一种翘起结构的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1：准备工作，准备玻璃基底(100)，在基底(100)上涂覆两层光刻胶，一层是正胶(101)，一层是负胶(102)；

步骤2：电子束曝光结构图形，用扫描电子显微镜中的图形发生器设计图形，并曝光相应区域；具体为：

用扫描电子显微镜中的图形发生器设计图形，设计的图形为按矩形周期排列的阵列结构，每个单元由第一矩形、第二矩形、第三矩形和第四区域构成；所述第一矩形和所述第二矩形相接，所述第二矩形和所述第三矩形相接，所述第一矩形、所述第二矩形和所述第三矩形设置于矩形周期的中间位置；所述周期内除去所述第一矩形、所述第二矩形和所述第三矩形的区域为所述第四区域；

采用不同的曝光深度曝光所述第一矩形、所述第三矩形和所述第四区域；其中，所述第一矩形和所述第三矩形的曝光深度为所述正胶(101)的厚度和所述负胶(102)的厚度相加的厚度，所述第四区域的曝光深度为所述负胶(102)的厚度；

步骤3：显影定影处理后，蒸镀金属材料(103)；具体为：

步骤3a：显影定影处理，烘干；

步骤3b：垂直蒸镀一层金属材料(103)；蒸镀厚度为所述正胶(101)的厚度；

步骤3c：进行负胶显影定影，并烘干；

步骤3d：再垂直蒸镀一层金属材料(103)；蒸镀厚度为30～40nm；

所述金属材料(103)的热膨胀系数远小于所述光刻胶的热膨胀系数；

步骤4：用剥离液进行lift-off剥离工艺；具体为：

步骤4a：用负胶剥离液进行lift-off工艺；

步骤4b：对结构整体进行曝光；

步骤4c：再用正胶显影液浸泡；

步骤5：将制备好的结构放入热场中。

2.根据权利要求1所述的翘起结构的制备方法，其特征在于，所述涂覆两层光刻胶的具体步骤为，用甩胶机，甩一层正胶(101)30nm，烘干之后，再甩一层负胶(102)90～100nm，烘干。

3.权利要求1所述的翘起结构的制备方法，其特征在于，所述金属材料(103)为金，银或铜。

4.所述权利要求3所述的翘起结构的制备方法，其特征在于，所述蒸镀金属材料(103)的速率为

5.根据权利要求4所述的翘起结构的制备方法，其特征在于，所述玻璃基底(100)为ITO玻璃。