[发明专利]掩膜板、蒸镀装置及掩膜板对位方法

权利要求书

1.一种掩膜板，其特征在于，包括至少一个掩膜图形开口和成对设置的至少一对定位孔组，每一对所述定位孔组分别在所述掩膜板相对两侧边对称排列，每个所述定位孔组均包括至少一个定位孔，且每一所述定位孔组中的定位孔均与成对设置的另一定位孔组中的定位孔相对于所述掩膜板的中心点对称设置，所述掩膜图形开口均位于两个所述定位孔组之间。

2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述定位孔组为两对，且两对所述定位孔组分别设置在所述掩膜板的不同方向的侧边上。

3.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述定位孔组为一对，且该对所述定位孔组分别设置在所述掩膜板的相对两侧边。

4.根据权利要求1-3任一项所述的掩膜板，其特征在于，每个所述定位孔组中包括至少两个定位孔，相邻的两个所述定位孔之间具有间隙，两个所述定位孔组中定位孔数量相同。

5.根据权利要求4所述的掩膜板，其特征在于，每个所述定位孔组中的所有定位孔均排列在同一条直线上。

6.根据权利要求4所述的掩膜板，其特征在于，每个所述定位孔组中相邻两定位孔之间的间距均相等。

7.一种蒸镀装置，其特征在于，包括权利要求1-6任一项所述的掩膜板。

8.一种掩膜板对位方法，其特征在于，包括：

将掩膜板设置在待蒸镀的基板上；

根据所述掩膜板上的定位孔位置获取所述掩膜板的中心点位置；

根据所述中心点位置确定所述掩膜板上的各个掩膜图形开口的位置，并通过各个所述掩膜图形开口的位置调整所述掩膜板的位置，以使所述掩膜板与所述基板对位，其中各个所述掩膜图形开口阵列排布。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述根据所述中心点位置确定所述掩膜板上的掩膜图形开口的位置，具体包括：

根据所述中心点位置确定第一掩膜图形开口的中心的位置，其中所述第一掩膜图形开口为所述掩膜板上的掩膜图形开口；

根据所述第一掩膜图形开口的中心的位置确定所述第一掩膜图形开口中预设像素点的位置，并将所述第一掩膜图形开口中预设像素点的位置作为所述第一掩膜图形开口的位置；

根据所述第一掩膜图形开口中预设像素点的位置确定第二掩膜图形开口中预设像素点的位置，并将所述第二掩膜图形开口中预设像素点的位置作为所述第二掩膜图形开口的位置，其中，所述第一掩膜图形开口和所述第二掩膜图形开口均为掩膜板上的掩膜图形开口，所述第二掩膜图形开口与所述第一掩膜图形开口之间的间距为预设间距的整数倍。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述根据所述第一掩膜图形开口中预设像素点的位置确定第二掩膜图形开口中预设像素点的位置，具体包括：沿各个所述掩膜图形开口的阵列方向平移所述第一掩膜图形开口中预设像素点的位置坐标，以获得所述第二掩膜图形开口中预设像素点的位置坐标。