[发明专利]研磨头扫描方法及装置

权利要求书

1.一种研磨头扫描方法，其特征在于，应用于研磨头电机的控制器，包括：

获取目标研磨头的运行参数；所述运行参数包括：频率、分区数量、位移最小值、位移最大值、时间间隔和平滑度；

根据所述运行参数确定所述目标研磨头在每个分区的时间位移坐标；

根据所述时间位移坐标拟合所述目标研磨头在所述每个分区内的运行轨迹；

获取所述目标研磨头的位移坐标，并根据所述位移坐标确定所述目标研磨头处于的分区；

控制所述目标研磨头以所述位移坐标为起点，按照所述目标研磨头所处分区对应的所述运行轨迹进行扫描。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据所述时间位移坐标拟合所述目标研磨头在所述每个分区内的运行轨迹，包括：根据所述时间位移坐标，采用三次函数拟合所述目标研磨头在所述每个分区内的运行轨迹。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，采用以下算式拟合所述目标研磨头在所述每个分区内的运行轨迹：

Y_n＝A[n]*(t-t_n-1)³+B[n]*(t-t_n-1)²+C[n]*(t-t_n-1)+D[n]；

其中，n为第n个分区；t_n-1为所述目标研磨头进入所述第n个分区的起始时间；t为所述目标研磨头的时间坐标；Y_n为所述目标研磨头在时间为t时对应的位移坐标；A[n]、B[n]、C[n]、D[n]分别为所述第n个分区的拟合系数。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，获取所述目标研磨头的位移坐标，并根据所述位移坐标确定所述目标研磨头处于的分区，包括：采用以下算式确定所述目标研磨头处于的分区：

n＝(Y_i-Y_min)/(Y_max-Y_min)*N；

其中，n为所述目标研磨头处于的分区的编号；N为所述分区数量；Y_i为所述目标研磨头的位移坐标；Y_min为所述位移最小值；Y_max为所述位移最大值。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，获取目标研磨头的运行参数，包括：

获取目标研磨头的频率；所述频率决定所述目标研磨头的运行周期；

获取所述目标研磨头的分区数量；所述分区数量决定所述目标研磨头研磨的精细程度；

获取所述目标研磨头的位移最小值和位移最大值；所述位移最小值和位移最大值决定所述目标研磨头的位移区域；

获取所述目标研磨头的时间间隔；所述时间间隔决定所述目标研磨头在每个所述分区的停留时间；

获取所述目标研磨头的平滑度；所述平滑度决定所述目标研磨头的运行轨迹的光滑程度。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述平滑度的范围在0-1之间。

7.一种研磨头扫描装置，其特征在于，包括：

参数获取模块，用于获取目标研磨头的运行参数；所述运行参数包括：频率、分区数量、位移最小值、位移最大值、时间间隔和平滑度；

坐标确定模块，用于根据所述运行参数确定所述目标研磨头在每个分区的时间位移坐标；

轨迹拟合模块，用于根据所述时间位移坐标拟合所述目标研磨头在所述每个分区内的运行轨迹；

分区确定模块，用于获取所述目标研磨头的位移坐标，并根据所述位移坐标确定所述目标研磨头处于的分区；

控制扫描模块，用于控制所述目标研磨头以所述位移坐标为起点，按照所述目标研磨头所处分区对应的所述运行轨迹进行扫描。

8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，还包括：三次函数拟合模块，用于根据所述时间位移坐标，采用三次函数拟合所述目标研磨头在所述每个分区内的运行轨迹。