[发明专利]用于物体检查的光照设备在审
申请号: | 201910026532.5 | 申请日: | 2019-01-11 |
公开(公告)号: | CN109632812A | 公开(公告)日: | 2019-04-16 |
发明(设计)人: | 杨维平;程泽 | 申请(专利权)人: | 英特尔产品(成都)有限公司;英特尔公司 |
主分类号: | G01N21/88 | 分类号: | G01N21/88;G01N21/95 |
代理公司: | 北京永新同创知识产权代理有限公司 11376 | 代理人: | 林锦辉 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光照设备 可见光源 物体检查 照射 光罩 凹陷曲面 物体图像 检查 凹陷 单色可见光 照度偏差 照射光 清晰 | ||
1.一种用于物体检查的光照设备,包括:
曲面光罩,所述曲面光罩具有凹陷曲面,所述凹陷曲面被布置为朝向待检查的物体;以及
多个单色可见光源,布置在所述曲面光罩的凹陷曲面上,被配置为照射所述待检查的物体,
其中,所述多个单色可见光源的位置和所述凹陷曲面的形状能够使得所述多个单色可见光源发出的单色可见光形成在预定照射范围内的照度偏差不超过10%的照射光来照射所述待检查的物体,所述预定照射范围不小于所述待检查的物体的待检查部分所在的区域。
2.如权利要求1所述的光照设备,其中,在所述照射光在所述预定照射范围内的照度偏差为不超过8%或不超过5%。
3.如权利要求1所述的光照设备,其中,所述单色可见光的波长范围为400~760nm。
4.如权利要求1所述的光照设备,其中,所述凹陷曲面的表面由指定材料制成,以及所述凹陷曲面的表面的颗粒的粒度不超过所述单色可见光的波长。
5.如权利要求1所述的光照设备,其中,所述凹陷曲面的表面具有利用特定材料形成的涂覆层。
6.如权利要求1所述的光照设备,还包括:
至少一个第一传感装置,布置在所述曲面光罩的内侧,被配置为感测所述待检查的物体所处环境的单色可见光的照度;以及
控制装置,被配置为在所感测的单色可见光的照度未达到预定的单色可见光照度阈值时,控制所述单色可见光源的发光亮度以使得所述待检查的物体所处环境中的单色可见光的照度达到所述单色可见光照度阈值。
7.如权利要求6所述的光照设备,还包括:
多个白光光源,布置在所述凹陷曲面上的与所述多个单色可见光源对应的位置处,被配置为在所述待检查的物体所处环境的光照条件未达到所要求的光照条件时,对所述待检查的物体进行补偿照射。
8.如权利要求7所述的光照设备,还包括:
第二传感装置,设置于所述曲面光罩的内侧,被配置为感测所述待检查的物体所处环境的白光照度,
所述控制装置被配置为:
在所感测到的所述待检查的物体所处环境中的白光照度未达到预定的白光照度阈值时,控制所述多个白光光源的发光亮度,以使得所述待检查的物体所处环境中的白光照度达到所述白光照度阈值。
9.如权利要求7所述的光照设备,其中,所述控制装置被配置为:
根据所述待检查的物体的材质来控制所述多个白光光源的打开或关闭。
10.如权利要求7所述的光照设备,其中,所述控制装置还被配置为:
在控制所述单色可见光源不能使得所述待检查的物体所处环境中的单色可见光的照度满足所述单色可见光照度阈值时,控制所述多个白光光源的发光亮度,以使得所述待检查的物体所处环境中的单色可见光的照度满足所述单色可见光照度阈值。
11.如权利要求1-10中任一项所述的光照设备,其中,所述单色光源为红色可见光源。
12.如权利要求10所述的光照设备,其中,所述单色光源为红色可见光源,所述白光光源包括RGB白光光源,所述控制装置被配置为:
在控制所述红色可见光源不能使得所述待检查的物体所处环境中的红色可见光的照度满足红色可见光照度阈值时,根据所感测到的所处环境中的红色可见光的照度和所述红色可见光照度阈值来控制所述RGB白光光源中的红光组件的发光亮度;以及
基于所确定的所述RGB白光光源中的红光组件的发光亮度来控制所述RGB白光光源中的绿光模块和蓝光模块的发光亮度,以使所述RGB白光光源发出白光。
13.如权利要求1-10中任一项所述的光照设备,其中,所述曲面光罩的顶部中央具有开口,所述开口使得对所述待检查的物体进行摄像的摄像装置的镜头能够穿过。
14.如权利要求1-10中任一项所述的光照设备,其中,所述待检查的物体是半导体设备。
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