[发明专利]一种纳米阵列结构太阳能电池及其制备方法有效
申请号: | 201910027266.8 | 申请日: | 2019-01-11 |
公开(公告)号: | CN109786480B | 公开(公告)日: | 2020-05-12 |
发明(设计)人: | 彭铭曾;安运来;郑新和;卫会云;刘三姐;何荧峰;李美玲;宋祎萌;仇鹏;成佳东 | 申请(专利权)人: | 北京科技大学 |
主分类号: | H01L31/0236 | 分类号: | H01L31/0236;H01L31/0216;H01L31/068;H01L31/18;B82Y40/00 |
代理公司: | 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 | 代理人: | 皋吉甫 |
地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 纳米 阵列 结构 太阳能电池 及其 制备 方法 | ||
1.一种纳米阵列结构太阳能电池,其特征在于,所述太阳能电池包括:
一背电极;
一用于对太阳光反射和吸收的纳米阵列结构;
一作为所述背电极和所述纳米阵列结构载体的衬底;
一用于提高太阳光吸收率的吸光层;
一用于增强光散射的填充层;
一上电极;
一抗反射涂层;
所述衬底两侧分别设置所述纳米阵列结构和所述背电极;所述上电极设置在所述纳米阵列结构上方,所述抗反射涂层面设置在所述上电极面向所述纳米阵列结构一侧;所述吸光层设置在所述纳米阵列结构表面;所述填充层设置在所述纳米阵列结构的空隙中;
所述纳米阵列结构是直接在衬底上通过干法刻蚀得到的;
所述纳米阵列结构为纳米柱的阵列结构;在所述纳米阵列顶部设计一顶部结构;
令a为所述顶部结构的上表面周长,b为所述纳米柱的周长,0≤a/b≤1;
所述纳米柱的直径为10nm-10μm;
所述纳米柱的高度为100nm-10μm;
所述纳米柱的周期为100nm-10μm;
所述吸光层为宽禁带氮化物半导体。
2.根据权利要求1所述的一种纳米阵列结构太阳能电池,其特征在于,所述背电极材料为金属材料。
3.根据权利要求1所述的一种纳米阵列结构太阳能电池,其特征在于,所述抗反射涂层材料为透明导电材料,厚度为5nm-150nm。
4.根据权利要求1所述的一种纳米阵列结构太阳能电池,其特征在于,所述纳米柱的结构为圆柱和/或棱柱。
5.一种如权利要求1~4任一项所述的纳米阵列结构太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述制备方法具体包括如下步骤:
步骤1,清洗衬底并吹干;
步骤2,溅射背电极:在所述衬底一面溅射一层金属材料,该层金属材料即为所述背电极;
步骤3,制备纳米阵列结构:将经步骤2中溅射后的所述衬底的另一面进行光刻处理,得到所述纳米阵列结构;
步骤4,设计所述纳米阵列结构的纳米柱顶部结构:对所述纳米阵列结构进行第二次光刻处理,得到所述顶部结构;
步骤5,清洗所述纳米阵列结构;
步骤6,沉积吸光层:在真空和恒温的条件下,在步骤5中清洗好的所述纳米阵列结构表面沉积,得到所述吸光层;
步骤7,填充填充层:在所处填充层中填充增强纳米散射的物质,得到具有背电极、衬底、纳米阵列结构和吸光层的半成型结构;
步骤8,封装:将一面附有抗反射涂层的上电极与步骤7得到的所述半成型结构进行封装,得到所述太阳能电池。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京科技大学,未经北京科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910027266.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的