[发明专利]一种纳米阵列结构太阳能电池及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910027266.8 申请日: 2019-01-11
公开(公告)号: CN109786480B 公开(公告)日: 2020-05-12
发明(设计)人: 彭铭曾;安运来;郑新和;卫会云;刘三姐;何荧峰;李美玲;宋祎萌;仇鹏;成佳东 申请(专利权)人: 北京科技大学
主分类号: H01L31/0236 分类号: H01L31/0236;H01L31/0216;H01L31/068;H01L31/18;B82Y40/00
代理公司: 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 代理人: 皋吉甫
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 纳米 阵列 结构 太阳能电池 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种纳米阵列结构太阳能电池,其特征在于,所述太阳能电池包括:

一背电极;

一用于对太阳光反射和吸收的纳米阵列结构;

一作为所述背电极和所述纳米阵列结构载体的衬底;

一用于提高太阳光吸收率的吸光层;

一用于增强光散射的填充层;

一上电极;

一抗反射涂层;

所述衬底两侧分别设置所述纳米阵列结构和所述背电极;所述上电极设置在所述纳米阵列结构上方,所述抗反射涂层面设置在所述上电极面向所述纳米阵列结构一侧;所述吸光层设置在所述纳米阵列结构表面;所述填充层设置在所述纳米阵列结构的空隙中;

所述纳米阵列结构是直接在衬底上通过干法刻蚀得到的;

所述纳米阵列结构为纳米柱的阵列结构;在所述纳米阵列顶部设计一顶部结构;

令a为所述顶部结构的上表面周长,b为所述纳米柱的周长,0≤a/b≤1;

所述纳米柱的直径为10nm-10μm;

所述纳米柱的高度为100nm-10μm;

所述纳米柱的周期为100nm-10μm;

所述吸光层为宽禁带氮化物半导体。

2.根据权利要求1所述的一种纳米阵列结构太阳能电池,其特征在于,所述背电极材料为金属材料。

3.根据权利要求1所述的一种纳米阵列结构太阳能电池,其特征在于,所述抗反射涂层材料为透明导电材料,厚度为5nm-150nm。

4.根据权利要求1所述的一种纳米阵列结构太阳能电池,其特征在于,所述纳米柱的结构为圆柱和/或棱柱。

5.一种如权利要求1~4任一项所述的纳米阵列结构太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述制备方法具体包括如下步骤:

步骤1,清洗衬底并吹干;

步骤2,溅射背电极:在所述衬底一面溅射一层金属材料,该层金属材料即为所述背电极;

步骤3,制备纳米阵列结构:将经步骤2中溅射后的所述衬底的另一面进行光刻处理,得到所述纳米阵列结构;

步骤4,设计所述纳米阵列结构的纳米柱顶部结构:对所述纳米阵列结构进行第二次光刻处理,得到所述顶部结构;

步骤5,清洗所述纳米阵列结构;

步骤6,沉积吸光层:在真空和恒温的条件下,在步骤5中清洗好的所述纳米阵列结构表面沉积,得到所述吸光层;

步骤7,填充填充层:在所处填充层中填充增强纳米散射的物质,得到具有背电极、衬底、纳米阵列结构和吸光层的半成型结构;

步骤8,封装:将一面附有抗反射涂层的上电极与步骤7得到的所述半成型结构进行封装,得到所述太阳能电池。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京科技大学,未经北京科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910027266.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top