[发明专利]废硅泥再利用的处理方法在审
申请号: | 201910027727.1 | 申请日: | 2019-01-11 |
公开(公告)号: | CN110002450A | 公开(公告)日: | 2019-07-12 |
发明(设计)人: | 谢雅敏;周信辉;张弼程 | 申请(专利权)人: | 成亚资源科技股份有限公司 |
主分类号: | C01B33/12 | 分类号: | C01B33/12 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 孙皓晨;马鑫 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 废硅 反应槽 泥浆 高纯度二氧化硅 清洗 再利用 粉体 室内 二氧化硅粉粒 二氧化硅颗粒 资源化再利用 第二反应槽 第一反应槽 旋风集尘器 粒度均匀 粒径分级 去离子水 氧化反应 分散剂 高纯度 固液比 微米级 磁选 粉粒 喷入 酸洗 置入 填充 | ||
本发明公开了一种废硅泥再利用的处理方法,其方法如下:(1)将废硅泥依次置入第一反应槽、第二反应槽、第三反应槽、第四反应槽以及第五反应槽内分别进行清洗、磁选、清洗、酸洗以及清洗的处理步骤;(2)将得自步骤(1)的废硅泥以固液比1:5~50的比例与去离子水混合调成泥浆,并加入分散剂进行分散;(3)将得自步骤(2)的泥浆以高压喷入一反应室内,在该反应室内,该泥浆经氧化反应形成二氧化硅颗粒;(4)将得自步骤(3)的颗粒以旋风集尘器收集,可得高纯度微米级的二氧化硅粉粒;(5)将得自步骤(4)的粉粒进行粒径分级,可得粒度均匀且大于99%的高纯度二氧化硅粉体;如此,该高纯度二氧化硅粉体可广泛运用于工业填充材,可使废硅泥资源化再利用。
技术领域
本发明涉及一种废硅泥再利用的处理方法,特别涉及一种将废硅泥经处理后制成高纯度二氧化硅粉体,可广泛运用于工业填充材。
背景技术
目前,废硅泥来源为半导体或太阳能晶圆厂经切割或研磨制程产生,此类废硅泥一般不含切削油及碳化硅,其含液量大于80%,业界有许多回收处理废硅泥的方法,例如将硅泥干燥形成低纯度的硅粉、添加黏结剂,均匀混合后再压制成硅碇或是高温熔融后形成硅块;本发明的方法是提供一种新的回收技术,所提纯的二氧化硅粉体可应用于工业填充材。
发明内容
本发明的主要目的是提供一种废硅泥再利用的处理方法,可将废硅泥再生为高纯度二氧化硅粉体,可广泛运用于工业填充材使用。
为了达到上述目的,本发明采用了以下技术手段:
本发明的一种废硅泥再利用的处理方法,包括以下步骤:
(1)将废硅泥置于承载盘批次置入第一反应槽内,该反第一应槽为超音波清洗槽,其清洗条件为50~200KHz,清洗时间为5~15分钟;其后将其取出置于第二反应槽内进行磁选,磁选时间为5~15分钟,该第二反应槽内于磁选前加入3~20%v/v的分散剂,该分散剂为醇类;其后再将其取出置于第三反应槽内以去离子水进行清洗,清洗时间为5~15分钟,清洗后再将其取出置于第四反应槽内进行酸洗,酸洗时间为5~15分钟;其后将其取出置于第五反应槽内再以去离子水进行清洗,清洗时间为15~30分钟;
(2)将得自步骤(1)的废硅泥以固液比1:5~50的比例与去离子水混合调成泥浆,并加入一醇类作为分散剂进行分散,分散时间为30分钟以上;
(3)将得自步骤(2)的泥浆以高压喷入一反应室内,该反应室为可控制气氛的气氛炉,该气氛炉中的气体温度为1200℃~1800℃,在该反应室内,该泥浆经氧化反应形成二氧化硅颗粒;
(4)将得自步骤(3)的颗粒以旋风集尘器收集,可得高纯度微米级的二氧化硅粉粒;
(5)将得自步骤(4)的粉粒进行粒径分级,可得粒度均匀且硅含量大于99%的高纯度二氧化硅粉体。
本发明所述的废硅泥再利用的处理方法中,优选的,所述的废硅泥成分的硅含量为90%以上。
本发明所述的废硅泥再利用的处理方法中,优选的,该酸洗的酸剂为无机酸,该酸剂为25%v/v的纯盐酸、10%v/v的纯硫酸、20%v/v的纯硝酸、10%v/v的纯磷酸以及35%v/v的去离子水的混合物。
本发明所述的废硅泥再利用的处理方法中,优选的,该醇类为甲醇、乙醇、乙二醇、二乙二醇、聚乙二醇、异丙醇其中之一或两种以上的混合物。
本发明废硅泥再利用的处理方法,其中,该气氛炉中的气体为氧气或空气。
本发明废硅泥再利用的处理方法,其优点在于:可简单且快速的将废硅泥再生为高纯度二氧化硅粉体,可广泛运用于工业填充材使用,使废硅泥达到最佳的资源化再利用。
附图说明
图1所示为本发明实施例方法的流程图。
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