[发明专利]一种含铱配合物的合成方法

权利要求书

1.一种含铱配合物Ir(L_a)(L_b)₂的合成方法，其包含：

使与La在一种或多于一种溶剂或者没有溶剂的存在下一步反应以制备化合物Ir(La)(Lb)₂；

其中S为中性配体，X为抗衡离子；

其中L_a具有式1的结构：

式1中，

所述Y₁和Y₂各自独立地选自O，S或NR；

所述R，R₁，R₂，R₃，R₄，R₅，R₆和R₇各自独立地选自由以下组成的组：氢，氘，卤素，取代或未取代的具有1-20个碳原子的烷基，取代或未取代的具有3-20个环碳原子的环烷基，取代或未取代的具有1-20个碳原子的杂烷基，取代或未取代的具有7-30个碳原子的芳烷基，取代或未取代的具有1-20个碳原子的烷氧基，取代或未取代的具有6-30个碳原子的芳氧基，取代或未取代的具有2-20个碳原子的烯基，取代或未取代的具有6-30个碳原子的芳基，取代或未取代的具有3-30个碳原子的杂芳基，取代或未取代的具有3-20个碳原子的烷硅基，取代或未取代的具有6-20个碳原子的芳基硅烷基，取代或未取代的具有0-20个碳原子的胺基，酰基，羰基，羧酸基，酯基，腈，异腈，硫基，亚磺酰基，磺酰基，膦基，及其组合；

式1中，两个相邻的取代基能任选地连接形成环或稠合结构；

其中L_b具有式2的结构：

式2中，

所述的环A是五元杂环或者六元杂环；环B是五元碳环，六元碳环，五元杂环或者六元杂环；

其中A-B表示通过环A上的氮原子和环B上的碳原子配位到铱上的碳环或者杂环的键合对；

其中R_A和R_B分别代表单个到最大可能数量的取代基，或者无取代；当R_A或R_B代表多个取代基时，所述多个R_A可以是相同或不同的，所述多个R_B可以是相同或不同的，

其中R_A和R_B各自独立地选自由以下组成的组：氢，氘，卤素，取代或未取代的具有1-20个碳原子的烷基，取代或未取代的具有3-20个环碳原子的环烷基，取代或未取代的具有1-20个碳原子的杂烷基，取代或未取代的具有7-30个碳原子的芳烷基，取代或未取代的具有1-20个碳原子的烷氧基，取代或未取代的具有6-30个碳原子的芳氧基，取代或未取代的具有2-20个碳原子的烯基，取代或未取代的具有6-30个碳原子的芳基，取代或未取代的具有3-30个碳原子的杂芳基，取代或未取代的具有3-20个碳原子的烷硅基，取代或未取代的具有6-20个碳原子的芳基硅烷基，取代或未取代的具有0-20个碳原子的胺基，酰基，羰基，羧酸基，酯基，腈，异腈，硫基，亚磺酰基，磺酰基，膦基，及其组合；

式2中，两个相邻的取代基能任选地连接形成环。

2.如权利要求1所述的合成方法，其中Y₁和Y₂是O。

3.如权利要求1-2任一项所述的合成方法，其中所述溶剂选自甲醇，乙醇，正丙醇，异丙醇，正丁醇，叔丁醇，2-甲氧基乙醇，2-乙氧基乙醇，二氯甲烷，1,2-二氯乙烷，乙腈，苯，甲苯，二甲苯，均三甲苯，氯苯，乙醚，四氢呋喃，1,4-二氧六环，乙二醇二甲醚，乙二醇二乙醚，甲基叔丁基醚，N,N-二甲基甲酰胺，N,N-二甲基乙酰胺，甲酰胺，二甲基亚砜，N-甲基吡咯烷酮，丙酮，戊酮，以及任意比例的两种或两种以上上述溶剂的混合物。

4.如权利要求1-3任一项所述的合成方法，其中所述抗衡离子X选自三氟甲磺酸根，三氟乙酸根，甲磺酸根，四氟硼酸根或六氟磷酸根。

5.如权利要求1-4任一项所述的合成方法，其中所述中性配体S选自水，甲醇，乙醇，正丙醇，异丙醇，正丁醇，叔丁醇，2-甲氧基乙醇，2-乙氧基乙醇或乙腈。