[发明专利]用于测量特殊能段X光信号的方法有效
| 申请号： | 201910032452.0 | 申请日： | 2019-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN109613596B | 公开（公告）日： | 2020-10-27 |
| 发明（设计）人： | 杨品;杨正华;黎宇坤;张璐;孙亮;王静 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | G01T1/29 | 分类号： | G01T1/29;G01T1/36 |
| 代理公司： | 重庆为信知识产权代理事务所(普通合伙) 50216 | 代理人： | 蔡冬彦 |
| 地址： | 621900 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 测量 特殊 信号 方法 | ||
1.一种用于测量特殊能段X光信号的方法，其特征在于，包括以下步骤：
1)靶点(3)发出X光；
2)利用多层膜反射镜(1)对能点高于设定最大值的X光进行截止，利用滤片(2)对能点低于设定最小值的X光进行衰减，其中，所述多层膜反射镜(1)包括反射镜基底和贴附在反射镜基底上的至少三十层膜对，其中，所述反射镜基底的材料为单晶硅；
当每层所述膜对均包括上下层紧密结合的W层和Si层、所述滤片(2)的材料为Be或Cu时，多层膜反射镜(1)对能点高于1keV的X光进行截止，滤片(2)对能点低于500eV的X光进行衰减，每层所述膜对的厚度均为4.1nm，其中，W层的厚度为1.05nm～1.15nm，Si层的厚度为2.95nm～3.05nm，所述多层膜反射镜(1)的X光入射角为9.5°～10.5°，当所述滤片(2)的材料为Be时，滤片(2)的厚度为20μm～30μm；当所述滤片(2)的材料为Cu时，滤片(2)的厚度为1μm～2μm；
当每层所述膜对均包括上下层紧密结合的B4C层和Ni层、所述滤片(2)的材料为Be时，多层膜反射镜(1)对能点高于1keV且处于金M带以外的X光进行截止，滤片(2)对能点低于1keV的X光进行衰减，每层所述膜对的厚度均为3.7nm，其中，B4C层的厚度为2.45nm～2.65nm，Ni层的厚度为1.05nm～1.25nm，所述多层膜反射镜(1)的X光入射角为3°～5°；
3)利用记录设备(4)记录获取到的X光信号。
2.根据权利要求1所述的用于测量特殊能段X光信号的方法，其特征在于：所述反射镜基底的表面粗糙度小于等于0.3nm。
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