[发明专利]一种温和的修护卸妆乳

说明书

本发明属于卸妆产品技术领域，为解决现有的卸妆产品中多含有表面活性剂和防腐剂对皮肤造成伤害，且卸妆不彻底的问题，本发明的目的在于提供一种温和的修护卸妆乳，所述修护卸妆乳包括以下质量百分比的各组分：超电解还原水80～92％、甘油1～5％、1,3‑丙二醇1～4％、羧甲基纤维素钠0.5～2％和天然油脂，天然油脂的含量不少于3％，还包括0.05～0.2％的活性硅。本发明的修护卸妆乳能够深层去除彩妆、灰尘和人体代谢污垢，使用温和无刺激，并且杀菌抑菌适合眼部等脆弱部位；利用电荷斥力达到物理剥离污渍的效果，不破会皮肤的结构性脂质屏障，同时带有负电荷，能够抗静电，防止再次残留，卸妆清洁能力强。

技术领域

本发明属于卸妆产品技术领域，具体涉及一种温和的修护卸妆乳。

背景技术

现在人们大都使用卸妆产品进行卸妆，而市面上流行的卸妆产品包括卸妆水、卸妆啫喱、卸妆膏等均大都含有表面活性剂和防腐剂。一方面，卸妆时附着于皮肤表面的彩妆及其他污垢由于静电及化学反应，往往黏附在只有显微镜才能看到的皮肤凹凸面上，用普通的含表面活性剂的卸妆产品很难将其清除，而且溶剂自身的油脂则会留在凹面里，造成彩妆污渍的化学变化，有时不仅难以清除彩妆污漬，还会引起彩妆污渍的再次附着甚至导致皮肤角质层本身发生化学变化；另一方面，大量的表面活性剂因难以冲洗掉而残留于皮肤的表面使皮肤的结构性脂质溶出，引起细胞与细胞间的空泡，从而皮肤的干绷起皮，对皮肤造成伤害。而防腐剂对皮肤的刺激性大，会老化皮肤，尤其是长期运用于脆弱的眼部卸妆会引起眼部不适，伤害眼睛。部分人群的肤感厚腻，难以清洗，还需要含有大量表面活性剂的洁面产品再次辅助清洗，从而对皮肤带来二次伤害。例如，卸妆水主要靠表面活性剂和PEG接链的油脂去卸妆，卸妆后干绷，添加的防腐剂明显刺激，基本无法用于眼部卸妆，而卸妆油看似卸妆力强，但是肤感不好，肤感极其油腻，洗不干净，残留毛孔，堵塞闷痘。

发明内容

为解决现有的卸妆产品中多含有表面活性剂和防腐剂对皮肤造成伤害，且卸妆不彻底的问题，本发明的目的在于提供一种温和的修护卸妆乳，无表面活性剂、防腐剂添加，卸妆能力强，对皮肤温和无伤害，尤其适合敏感部位如眼部和极其敏感的皮肤卸妆使用

本发明提供如下的技术方案：

一种温和的修护卸妆乳，所述修护卸妆乳包括以下质量百分比的各组分：超电解还原水80～92％、甘油1～5％、1,3-丙二醇1～4％、羧甲基纤维素钠0.5～2％和天然油脂，天然油脂的含量不少于3％。

本发明的修护卸妆乳由超电解还原水、甘油等组成，经电子显微镜观察，该修护卸妆乳形成了微米层状颗粒，其中平均粒径为2.86μm，最大粒径为4.28μm，表现出稳定的微乳液状态，能够吸附多余皮脂。超电解还原水是水经电解装置电解处理后从阴极侧收集的纯水，从离子交换膜和电极中经电分解获得的丰富的负离子，从而在修护卸妆乳中引入丰富的负离子，这样在与彩妆污漬和皮肤表面接触时，吸引阳离子的大量的负离子就会依靠电力和分子间的力量将彩妆污渍和皮肤表面的表面阳离子化。接下来负离子群和阳离子群的双方互相间的吸力作用于彩妆污漬和皮肤表面之间产生促进毛细管现象的效果，使阳离子化的彩妆污漬表面不断吸引负离子逐渐为其所包围，同时皮肤的表面也为负离子所覆盖。此时彩妆污漬和皮肤表面负离子群之间引起相互排斥，从而起到促进彩妆污渍从皮肤剥离的效果。经此作用，深入各细部的彩妆污漬将完全浮出表面，由于不会发生属于表面活性剂基本构造的亲油基和亲水基所产生的乳化作用，因此完全见不到用一般卸妆产品时所出现的化学变化，达到了只清除彩妆污漬的功效，不会对皮肤表面带来损伤，也无残留物。

同时由于修护卸妆乳中负离子含量丰富，而且无金属阳离子存在，使修护卸妆乳保持与人体体液相近的弱碱性，因此使用更加温和。经发明人测试，该修护卸妆乳的pH值保持的范围为10～11.5，不适宜细菌繁殖，而且能够起到杀菌和防霉效果，因此可避免防腐剂使用。同时经测试，该修护卸妆乳的氧化还原电位0RO值约-100mv，即呈现电负荷特性，因此可以起到抗静电防尘作用。而在超电解还原水提供修护卸妆乳主体的清洁、温和效果的基础上，甘油和1,3-丙二醇起到溶剂和润湿作用，天然油脂起到滋润修护皮肤的作用，羧甲基纤维素起到增稠效果。