[发明专利]一种陶瓷雕刻品制作工艺

权利要求书

1.一种陶瓷雕刻品制作工艺，其特征在于，包括以下步骤：

1)瓷胚准备：将陶土堆塑成型制成瓷胚，晾干后在瓷胚表面上釉；

2)一次烧制：将瓷胚进行烧制，形成釉层，取出冷却；

3)雕刻上色：在一次烧制后的釉层上雕刻不同深度的表面凹陷形成图案，在表面凹陷内纯手工填充不同颜色的釉料或者两种以上颜色的釉料混合后的多彩釉料；

4)二次烧制：将上釉后的瓷胚再次放入窑内进行二次烧制，取出冷却；

5)抛光打磨：将冷却后的陶瓷制品的表面进行抛光打磨，即得成品。

2.根据权利要求1所述的陶瓷雕刻品制作工艺，其特征在于，所述雕刻上色步骤中采用手工雕刻的方法进行雕刻。

3.根据权利要求2所述的陶瓷雕刻品制作工艺，其特征在于，所述手工雕刻的步骤为先用刻刀在瓷胚面上划出图形轮廓，再沿图形轮廓线进行凿刻，形成不同深度的凹陷。

4.根据权利要求1所述的陶瓷雕刻品制作工艺，其特征在于，所述雕刻上色步骤中采用化学腐蚀的方法进行雕刻。

5.根据权利要求1所述的陶瓷雕刻品制作工艺，其特征在于，所述雕刻上色步骤中采用激光雕刻的方法进行雕刻。

6.根据权利要求5所述的陶瓷雕刻品制作工艺，其特征在于，所述激光雕刻方法所采用的设备为自动控制设备，通过选择输入既定的程序，自动完成对瓷胚的雕刻。

7.根据权利要求1所述的陶瓷雕刻品制作工艺，其特征在于，所述一次烧制步骤中烧制温度为450-700℃。

8.根据权利要求1所述的陶瓷雕刻品制作工艺，其特征在于，所述二次烧制步骤中烧制温度为1150-1380℃。

9.根据权利要求1所述的陶瓷雕刻品制作工艺，其特征在于，所述二次烧制步骤中采用在空气中自然冷却的方法对陶瓷制品进行冷却。

10.根据权利要求1-9任一项所述的陶瓷雕刻品制作工艺，其特征在于，所述雕刻上色步骤中釉的成份包括贝壳灰、滑石粉和粘土。