[发明专利]一种提高激光图案化加工均匀性的方法有效
申请号: | 201910043389.0 | 申请日: | 2019-01-17 |
公开(公告)号: | CN109590604B | 公开(公告)日: | 2019-12-13 |
发明(设计)人: | 姜澜;李晓炜;王志鹏 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学 |
主分类号: | G02B27/48 | 分类号: | G02B27/48;B23K26/06;G03H1/32 |
代理公司: | 11639 北京理工正阳知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 邬晓楠 |
地址: | 100081 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 子图案 激光图案化 加工均匀性 相位图 整形 光场 加工 空间光调制器 能量沉积 均匀性 空间光 图案 隔行 激光 激光应用技术 斑点噪声 迭代算法 加工结果 整形加工 整形图案 傅里叶 拆解 载入 | ||
1.一种提高激光图案化加工均匀性的方法,其特征在于:具体步骤如下:
步骤一、根据加工精度的需求或者图案的复杂程度,将目标整形光场,即待加工图案,像素化成矩阵A0,所述矩阵A0由M×M个元素构成,A0中的元素由表示;其中光强为零的点对应的矩阵元素取值为0;然后根据加工均匀度的需求选取间隔数N,对目标整形光场采用隔行取值拆分的方式,将目标整形光场拆分成N2个子光场Ap,q(p=1,2…N;q=1,2…N),每个子光场矩阵Ap,q同样由M×M个元素构成,子光场Ap,q中的元素取值为:
其中,p,q为子光场矩阵Ap,q中第一个取值来自目标光场矩阵的元素所对应的行、列序号;k、l为整数,r、s分别为k、l的最大值,满足p+N×r≤M、q+N×s≤M;子光场Ap,q中的元素值除了取自拆分目标整形光场时分配得到的对应行列位置处的值之外,其余元素的值都为0,即对应点的光强为零;
步骤二、以步骤一得到的每个子光场为目标子光场,分别计算N2个子光场对应的相位全息图;
步骤三、将步骤二得到的N2张相位全息图依次载入相位型液晶空间光调制器,控制每张全息图显示的时间,即每个子光场的曝光加工时长;由于N2个子光场在空间上的叠加构成完整的图案,因此在N2张全息相位图加载完毕后,整形激光最终在材料上加工出边缘规整、均匀性良好的完整图案。
2.如权利要求1所述的一种提高激光图案化加工均匀性的方法,其特征在于:对于待加工图案的大小为50×50像素的情况下,所述拆分间隔数N大于6时,光场的均匀性趋向于饱和,因此N取值为1~6范围内的整数。
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