[发明专利]片材和片材的制造方法有效
| 申请号： | 201910044872.0 | 申请日： | 2019-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN110078988B | 公开（公告）日： | 2021-11-23 |
| 发明（设计）人： | 落合哲也 | 申请（专利权）人： | 积水化成品工业株式会社 |
| 主分类号： | C08L23/06 | 分类号： | C08L23/06;C08J9/36 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 制造 方法 | ||
1.一种片材，其是作为缓冲垫使用的片材，
所述片材具备：聚烯烃系树脂发泡片；和，形成于该聚烯烃系树脂发泡片上的涂膜，
所述涂膜中包含90质量％以上的下述通式(1)所示的阴离子系表面活性剂，
R-O-(CH2-CH2-O)n-X···(1)
此处，通式(1)中，“R-”为下述通式(2)所示的1价的有机基团，“n”为1～150的整数，“-X”为阴离子性官能团，
H2m+1Cm-···(2)
此处，通式(2)中的“m”为1～14的整数。
2.根据权利要求1所述的片材，其中，所述涂膜中的所述阴离子系表面活性剂的含量相对于所述聚烯烃系树脂发泡片的每单位面积为3mg/m2以上且100mg/m2以下。
3.一种片材的制造方法，其是作为缓冲垫使用的片材的制造方法，
所述制造方法实施在聚烯烃系树脂发泡片上涂布包含下述通式(1)所示的阴离子系表面活性剂的涂覆液的工序，制造在所述聚烯烃系树脂发泡片的表面具有由所述涂覆液形成的涂膜的所述片材，并且所述涂膜中包含90质量％以上的所述阴离子系表面活性剂，
R-O-(CH2-CH2-O)n-X···(1)
此处，通式(1)中，“R-”为下述通式(2)所示的1价的有机基团，“n”为1～150的整数，“-X”为阴离子性官能团，
H2m+1Cm-···(2)
此处，通式(2)中的“m”为1～14的整数。
4.根据权利要求3所述的片材的制造方法，其中，涂布所述涂覆液的所述工序以所述涂膜中的所述阴离子系表面活性剂的含量相对于所述聚烯烃系树脂发泡片的每单位面积成为3mg/m2以上且100mg/m2以下的方式而实施。
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