[发明专利]一种可完全过滤蓝紫光的选择性滤光材料有效
申请号: | 201910047873.0 | 申请日: | 2019-01-18 |
公开(公告)号: | CN109608861B | 公开(公告)日: | 2021-11-09 |
发明(设计)人: | 贺成明;夏廷;季川;刘培栽;汤勇 | 申请(专利权)人: | 南京华生皓光电科技有限公司 |
主分类号: | C08L69/00 | 分类号: | C08L69/00;C08K13/02;C08K5/3475;C08K3/24 |
代理公司: | 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 | 代理人: | 高姗 |
地址: | 210046 江苏省南京市南京经*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 完全 过滤 紫光 选择性 滤光 材料 | ||
本发明公开了一种可完全过滤蓝紫光的选择性滤光材料,属于光学材料技术领域,该滤光材料由树酯母粒、蓝光吸收剂及助剂组成,通过调整材料厚度、调整蓝光添加剂的种类、添加配比和添加量来任意调整截止波长,将截止波长控制在480‑520nm之间,可完全过滤蓝紫光。本发明制备的滤光材料可以达到完全达到过滤蓝紫光的要求,更可以做到应客户需要调整过滤截止波长。
技术领域
本发明涉及一种有机高分子材料,特别是涉及一种可完全过滤蓝紫光的选择性滤光材料,属于光学材料技术领域。
背景技术
PCB工厂、微电子厂、印刷厂、IC半导体电子厂、液晶面板厂等多采用光刻加化学蚀刻的方法,将细小电路印制在特定的基板上,目前光刻技术中主要采用的是紫外光刻,如果采用含紫外线和蓝光的普通白光灯管或荧光灯管照明,会影响光刻胶的固化工艺,使线路版刻蚀的细小电路边缘模糊,严重降低产品的质量或印刷制版的质量。
为了防止照明灯管发出的蓝紫光影响紫外光刻工艺,所有使用紫外光刻的厂区必须使用无蓝紫光的灯管进行照明,避免蓝紫光的干扰。
市面上很多黄光灯管只能过滤部分蓝紫光,无法达到完全过滤蓝紫光的要求,更做不到应客户需要调整过滤截止波长。
发明内容
本发明的主要目的是解决现有技术中滤光材料只能过滤部分蓝紫光,无法达到完全过滤蓝紫光的要求,更做不到应客户需要调整过滤截止波长的问题,而提供一种可完全过滤蓝紫光的选择性滤光材料。
本发明的目的可以通过采用如下技术方案达到:
一种可完全过滤蓝紫光的选择性滤光材料,该滤光材料由95.0-99.9%树脂母粒、0.01-3.00%蓝光吸收剂及0.01-2.0%助剂组成,通过调整蓝光吸收剂的组成及添加量,控制滤光材料的截止波长在480-520nm之间,截止波长之前的蓝紫光全部被过滤掉。
树脂母粒选自聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯树脂及聚对苯二甲酸乙二醇酯中的一种。
蓝光吸收剂选自钒酸铋、苯并咪唑酮黄HG、苯并咪唑酮橙HL、克劳莫夫塔尔橙GP及依尔加净DPP橙中的一种或多种。
蓝光吸收剂中的电子可被高能量光激发,通过降低电子的激发能量,使吸收波长移动到蓝光区,蓝光吸收剂每种都具有较强的吸收蓝紫光的能力,多种蓝光吸收剂复配,降低电子的激发,吸收波长向长波方向移动,通过不同复配组合的调整及添加量的变化以及材料厚度的调整使所述滤光材料的截止波长在480-520nm之间连续可调。
助剂包含光稳定剂、抗氧化剂、无卤阻燃剂及光扩散剂中的一种或多种。
光稳定剂为UV-531(2-羟基-4-正辛氧基二苯甲酮)、UV-3346(聚{(6-吗啉基-5-三嗪-2,4-二基)(2,2,6,6-四甲基哌啶基)亚胺基六亚甲基[(2,2,6,6-四甲基哌啶基)-亚胺基]})、UV-1164(2-(4,6-双(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪-2-基)-5-辛氧基酚)及UV-320(2-(2氢-苯骈三唑-2-基)-4,6-二(1,1-二甲基乙基)苯酚)中的一种或多种,添加量为总量的0.1-0.5%。
抗氧化剂为抗氧剂-1010(四[β-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸]季戊四醇酯)、抗氧剂-1076(β-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸正十八碳醇酯)及抗氧剂-168(三[2.4-二叔丁基苯基]亚磷酸酯)中的一种或多种复配,添加量为总量的0.1-0.5%。
无卤阻燃剂为磷系、芳香磺酸盐系、硅系及硼系等阻燃剂中的一种或多种,添加量为总量的0.05-1.0%。
光扩散剂为有机硅光扩散剂及丙烯酸光扩散剂中的至少一种,添加量为总量的0.4-1.0%。
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