[发明专利]用于使用光氢离子化的高级氧化过程的设备、系统和方法

权利要求书

1.一种用于形成高级氧化产物的设备，所述设备包括：

紫外光源，其用于发射具有在100nm和300nm之间的波长的宽谱的紫外光，从所述紫外光源发射所述紫外光包括在185nm处和在254nm处的紫外光能量；以及

催化目标结构，其机械地耦合到所述紫外光源并包括表面，所述催化目标结构的所述表面包括二氧化钛和下列金属化合物中的至少一个：

银；

锌；

铜；以及

铑，

其中，所述二氧化钛形成在无水碳酸镁基底中，所述金属化合物中的至少一个包含在氧化铈强化结构中，所述氧化铈强化结构具有额外的光反应增强剂，

以及其中，所述催化目标结构的所述表面在与紫外光接触之后与在所述表面处的水合物发生反应以形成高级氧化产物。

2.如权利要求1所述的设备，其中，所述催化目标结构的所述表面包括二氧化钛和多个下列金属化合物：

银；

锌；

铜；以及

铑。

3.如权利要求1所述的设备，其中，所述催化目标结构的所述表面包括二氧化钛、银、锌、铜和铑。

4.如权利要求3所述的设备，其中，所述催化目标结构的所述表面包括亲水剂。

5.如权利要求4所述的设备，其中，所述亲水剂包括硅胶。

6.如权利要求1所述的设备，其中，所述催化目标结构的所述表面包括亲水剂。

7.如权利要求6所述的设备，其中，所述亲水剂包括硅胶。

8.如权利要求1所述的设备，其中，所述催化目标结构的所述表面由在所述表面处的水合剂水合，以及其中，所述表面在与紫外光接触之后与来自在所述表面处的所述水合剂的水合物发生反应以形成高级氧化产物。

9.如权利要求8所述的设备，其中，所述水合剂包括在所述催化目标结构的所述表面处的水。

10.如权利要求8所述的设备，其中，所述水合剂包括在所述催化目标结构的所述表面处的水分和湿气中的至少一种。

11.如权利要求8所述的设备，其中，所述水合剂包括在所述催化目标结构的所述表面处的亲水剂。

12.如权利要求11所述的设备，其中，所述亲水剂包括硅胶。

13.如权利要求1所述的设备，其中，所述催化目标结构的所述表面被涂覆有包括二氧化钛和下列金属化合物中的至少一个的涂层：

银；

锌；

铜；以及

铑，

其中，所述二氧化钛形成在无水碳酸镁基底中，所述金属化合物中的至少一个包含在氧化铈强化结构中，所述氧化铈强化结构具有额外的光反应增强剂，

以及其中，所述表面在与紫外光接触之后与在所述表面处的水合物发生反应以形成高级氧化产物。

14.如权利要求13所述的设备，其中，所述涂层包括二氧化钛和多个下列金属化合物：

银；

锌；

铜；以及

铑。

15.如权利要求13所述的设备，其中，所述涂层包括二氧化钛、银、锌、铜和铑。

16.如权利要求13所述的设备，其中，所述涂层还包括亲水剂。

17.如权利要求16所述的设备，其中，所述亲水剂包括硅胶。

18.如权利要求1所述的设备，还包括离子发生器，用于释放正离子和负离子。