[发明专利]一种红外滤光片及其制备方法

权利要求书

1.一种红外滤光片，其特征在于，包括红外基底，在红外基底的至少一个表面上设置有镀膜层，所述镀膜层包括依次交替叠加的锗层和类金刚石膜层，其中，所述镀膜层与所述红外基底接触的为锗层，所述镀膜层的最外层为类金刚石膜层。

2.根据权利要求1所述的红外滤光片，其特征在于，至少一层所述镀膜层还包括氟化类金刚石薄膜层，其中，所述氟化类金刚石薄膜层位于所述镀膜层的最外层的类金刚石膜层的外侧。

3.根据权利要求1所述的红外滤光片，其特征在于，所述红外基底为锗层或者硫系玻璃。

4.一种制作红外滤光片的方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一：基片清洗；

步骤二：进行锗层和类金刚石膜层的交替沉积。

5.根据权利要求4所述的制作红外滤光片的方法，其特征在于，所述基片清洗具体包括：

在丙酮中超声清洗10-20min，在异丙醇中超声清洗10-20mi n，在去离子水中超声清洗10-20min；然后，采用浓硫酸和双氧水，50摄氏度下清洗10-20min，并用氮气吹干，浓硫酸和双氧水的体积比为3:1，其中，基片为锗基片。

6.根据权利要求5所述的制作红外滤光片的方法，其特征在于，所述进行锗层和类金刚石膜层的交替沉积，具体包括：

在电子束设备中镀锗层，在所述pecvd腔体中沉积类金刚石膜层，通过机械臂，由过渡腔体实现，红外滤光片在电子束设备和pecvd腔体之间的转移。

7.根据权利要求4所述的制作红外滤光片的方法，其特征在于，在步骤二之后，还包括：

步骤三，在最外层的类金刚石膜层的外表面沉积氟化类金刚石薄膜层。