[发明专利]衬底支撑设备及其制造方法

说明书

本公开提供一种衬底支撑设备，其包含：安装部分，设置有与衬底接触使得衬底安装于其上的第一主体和被配置成包围第一主体的第二主体；以及支撑部分，连接在安装部分下方以便支撑安装部分，其中第一主体和第二主体包含多个突起，且设置在第一主体上的突起的上表面的面积形成为大于设置在第二主体上的突起的上表面的面积，因此可稳定地支撑衬底。

技术领域

本公开涉及一种衬底支撑设备及其制造方法，且更确切地说涉及一种允许均匀地调节衬底的整体温度同时稳定地支撑衬底的衬底支撑设备，且涉及一种衬底支撑设备的制造方法。

背景技术

一般来说，为制造例如液晶显示装置和太阳能电池等产品，将执行各种制造工艺，例如将不同类型的薄膜沉积于待处理的衬底(例如玻璃衬底)上，以及使所沉积薄膜图案化。此处，借助于使用物理沉积方法的沉积设备，或使用化学沉积方法的沉积设备来执行用于在衬底上形成薄膜的工艺。

物理沉积方法包含使薄膜颗粒与衬底直接地碰撞并吸附到衬底的溅镀。化学沉积方法包含用于诱发基团在衬底上方的化学反应且使所得薄膜颗粒下降并吸附到衬底的化学气相沉积。

用于执行化学气相沉积的沉积设备可包含其上安装衬底的基座和用于从基座上方将处理气体朝向衬底注射的喷头(shower head)。在相关技术中，为将衬底稳定安装于基座上，沿基座的周边表面提供遮蔽框架。遮蔽框架按压基座上安装的衬底的边缘区域来固定衬底。

然而，由于基座的周边表面与遮蔽框架之间的分离空间，基座的周边比基座的中心部分发生的热损耗更多。即，由于基座的周边表面与大气之间的直接接触，周边表面比中心区域发生的热损耗多。因此，邻接于基座的周边的外围区域比衬底的中心区域发生的热损耗多。因此，存在衬底的整体温度变得不一致的问题。

另外，由于基座的热膨胀和收缩的程度与遮蔽框架的热膨胀和收缩的程度不同，因此在处理衬底时，可由于基座与遮蔽框架之间的摩擦而产生颗粒。另外，还存在电子集中在遮蔽框架按压衬底的区域中使得衬底上产生火花的问题。

[相关技术文献]

[专利文献]

(专利文献1)KR10-1628813B

发明内容

本公开提供一种能够均匀调节衬底的整体温度的衬底支撑设备及其制造方法。

本公开还提供一种能够防止颗粒产生的衬底支撑设备及其制造方法。

本发明还提供一种能够抑制或防止衬底上产生火花的衬底支撑设备及其制造方法。

根据示范性实施例，一种衬底支撑设备包含：安装部分，设置有与衬底接触使得衬底安装于其上的第一主体，及被配置成包围第一主体的第二主体；以及支撑部分，连接在安装部分下方以便支撑安装部分。

第一主体和第二主体可具有多个突起，且设置在第一主体上的突起的上表面的面积可形成为大于设置在第二主体上的突起的上表面的面积。

第二主体可具有比第一主体更小的表面粗糙度值。

第一主体的算术平均粗糙度值可为约15微米到25微米，且第二主体的算术平均粗糙度值可为约1.6微米到3.6微米。

衬底支撑设备可还包含加热部分，其安装在安装部分上以便加热安装在安装部分上的衬底。

第一主体的竖直方向厚度可大于第二主体的竖直方向厚度，以及

加热部分可仅安装于第一主体上。

第一主体的竖直方向厚度可形成为不大于第二主体的竖直方向厚度，以及

加热部分可安装于第一主体和第二主体上。