[发明专利]一种渐变中性密度滤光片的制作方法

说明书

本发明公开了一种渐变中性密度滤光片的制作方法，该制作方法中选择与目标渐变中性密度滤光片最接近的固定中性密度滤光片作为基片，利用激光加工技术，对基片进行二次加工，以获得符合要求的渐变中性密度滤光片，具有制作效率高，制作成本低等优点。

技术领域

本发明公开涉及光学元件制造的技术领域，尤其涉及一种渐变中性密度滤光片的制作方法。

背景技术

中性密度滤光片是衰减光强而不会改变光谱能量分布的滤光片，在保持光谱分布中性的前提下，动态连续调整系统透射总的光能或控制光束(截面)不同位置的光强分布。中性密度滤光片可适用于从紫外、可见到近红外波段的调整光能应用，主要应用于激光、光通讯、摄影、天文、实验室研究等领域。

目前，中性密度滤光片的生产方式主要为镀膜和光刻，而上述两种生产方式多用于批量生产规范类滤光片，即按照既有规格和方案进行生产。一旦客户需要的是少量非规类渐变中性密度滤光片时，生产厂家仍需按照批量生产规范件的形式，根据非规类渐变中性密度滤光片的技术要求，进行生产方案的重新设计，例如：整体膜系材料的筛选，镀膜层数的计算以及镀膜工艺的设计与实验等。因此，即使客户需要的仅是一个或两个非规类渐变中性密度滤光片，生产厂家仍需按照批量生产的方式进行设计与实验，不仅导致非规类渐变中性密度滤光片的生产成本大幅提高，而且整个设计、实验周期较长，导致供货速度慢。

因此，如何研发一种有关渐变中性密度滤光片的制作方法，以解决上述问题，成为人们亟待解决的问题。

发明内容

鉴于此，本发明公开了一种渐变中性密度滤光片的制作方法，特别适用于非规类滤光片的制作，以至少解决现有非规类渐变中性密度滤光片在制作时，存在成本高，设计、实验周期长，导致供货速度慢等问题。

本发明提供的技术方案，具体为：一种渐变中性密度滤光片的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

1)根据目标渐变中性密度滤光片的技术要求，选择满足初始要求的固定中性密度滤光片作为基片；

2)将所述目标渐变中性密度滤光片与所述基片进行比较，计算获得激光在所述基片表面的清洗图案；

3)根据步骤2)中计算获得的清洗图案，控制激光器在所述基片表面进行激光加工作业。

优选，所述步骤2)将所述目标渐变中性密度滤光片与所述基片进行比较，计算获得激光在所述基片表面的清洗图案，具体为：

Ⅰ根据目标渐变中性密度滤光片的透射率要求，计算获得所述基片中关键节点位置对应的表面膜系去除量；

Ⅱ)根据目标渐变中性密度滤光片的具体光照信息，计算获得所述基片在各相邻关键节点间过渡区域的表面膜系去除量；

Ⅲ)根据步骤Ⅰ)中计算获得的关键节点位置对应的膜系去除量以及步骤Ⅱ)中计算获得的各相邻关键节点间过渡区域的膜系去除量，获得所述基片的表面膜系去除量与旋转角度之间的对应关系曲线；

Ⅳ)根据步骤Ⅲ)中获得的表面膜系去除量与旋转角度之间的对应关系曲线，计算获得所述基片各位置对应的激光刻蚀线路、条数以及各激光刻蚀线路间搭接的情况，进而确定激光在所述基片表面的清洗图案。

进一步优选，所述根据目标渐变中性密度滤光片的透射率要求，计算获得所述基片中关键节点位置对应的表面膜系去除量中采用线性计算。

进一步优选，所述具体光照信息包括：光照位置以及光照尺寸。

进一步优选，所述根据目标渐变中性密度滤光片的具体光照信息，计算获得所述基片在各相邻关键节点间过渡区域的表面膜系去除量中采用线性计算。