[发明专利]电子束出射窗口部件、电子束产生装置及电子束产生系统

权利要求书

1.一种电子束出射窗口部件，应用于电子束产生装置，其特征在于，包括：

支撑片，所述支撑片形成有一出射开口；

以及，位于所述支撑片一侧表面、且覆盖所述出射开口的非金属薄膜，其中，所述非金属薄膜为单个薄膜层或多个薄膜层的叠加层，且所述薄膜层为金刚石薄膜层、掺硼的金刚石薄膜层、石墨烯薄膜层或氮化硼薄膜层。

2.根据权利要求1所述的电子束出射窗口部件，其特征在于，所述非金属薄膜的厚度范围为不大于100微米。

3.根据权利要求1所述的电子束出射窗口部件，其特征在于，所述电子束出射窗口部件还包括：

位于所述支撑片背离所述非金属薄膜一侧的焊接层，其中，所述

焊接层的镂空区包括所述出射开口处。

4.根据权利要求1所述的电子束出射窗口部件，其特征在于，所述支撑片为金属支撑片或硅支撑片。

5.一种电子束产生装置，其特征在于，包括：

主壳体；

固定于所述主壳体内的支撑壳体，所述主壳体和所述支撑壳体均具有一在电子束的传输方向上的开口；

沿所述电子束的传输方向依次设置的阴极、栅极和阳极，其中，所述阴极设置于所述支撑壳体内，所述栅极固定与所述支撑壳体的开口处；

设置于所述主壳体的开口处的阳极法兰，所述阳极固定与所述阳极法兰处，且所述阳极法兰设置有一与所述栅极对应的开口；

以及，固定于所述阳极法兰的开口处的电子束出射窗口部件，所述电子束出射窗口部件包括：支撑片，所述支撑片形成有一出射开口；及，位于所述支撑片一侧表面、且覆盖所述出射开口的非金属薄膜，其中，所述非金属薄膜为单个薄膜层或多个薄膜层的叠加层，且所述薄膜层为金刚石薄膜层、掺硼的金刚石薄膜层、石墨烯薄膜层或氮化硼薄膜层。

6.根据权利要求5所述的电子束产生装置，其特征在于，所述非金属薄膜的厚度范围为不大于100微米。

7.根据权利要求5所述的电子束产生装置，其特征在于，所述电子束出射窗口部件还包括：

位于所述支撑片背离所述非金属薄膜一侧的焊接层，其中，所述焊接层的镂空区包括所述出射开口处。

8.根据权利要求5所述的电子束产生装置，其特征在于，所述支撑片为金属支撑片或硅支撑片。

9.根据权利要求5所述的电子束产生装置，其特征在于，所述电子束产生装置为电子枪。

10.一种电子束产生系统，其特征在于，所述电子束产生系统包括权利要求5～9任意一项所述的电子束产生装置；

以及，与所述电子束产生装置电连接的功率源，所述功率源为所述阴极和所述阳极提供电源。