[发明专利]染料结构

权利要求书

1.一种用于彩膜光刻胶的染料结构，其特征在于：所述染料结构包含：

一染料芯核；

一保护层，包覆在所述染料芯核外，所述保护层由一耐热高分子聚合物所形成；及

一紫外光吸收剂，散布于所述保护层中。

2.如权利要求1所述的染料结构，其特征在于：所述染料芯核由下式I、II或III所组成：

3.如权利要求1所述的染料结构，其特征在于：所述保护层的耐热高分子聚合物包含选自由以下组成的群组：聚苯乙烯、双酚A聚碳酸酯、聚碳酸酯、聚(甲基丙烯酸甲酯)、尼龙6、聚氨酯及聚亚酰胺中的一种或多种的嵌段物。

4.如权利要求1所述的染料结构，其特征在于：所述紫外光吸收剂的一吸收波长为420纳米以下。

5.如权利要求1所述的染料结构，其特征在于：所述紫外光吸收剂由2,2’-二羟基-4-甲氧基二苯甲酮衍生物组成。

6.如权利要求1所述的染料结构，其特征在于：所述紫外光吸收剂由下式IV所组成：

其中R₁选自由以下组成的群组：烷氧基、酯基、非共轭结构的直链烷烃、非共轭结构的支链烷烃、含烷氧基的直链或者支链烷烃、氟取代的烷烃衍生物、通过烷氧基及酯基相连接的共轭结构、五元杂环化合物、六元杂环化合物、苯并杂环化合物及稠环杂环化合物；

其中，当R₁为烷氧基、酯基及氟取代的烷烃衍生物时，R₁的碳链长度为1至25；及

其中当R₁为五元杂环化合物时，R₁选自由以下组成的群组：呋喃、噻吩、吡咯、噻唑及咪唑；当R₁为六元杂环化合物时，R₁选自由以下组成的群组：吡啶、吡嗪、嘧啶及哒嗪；及当R₁为稠环杂环化合物，R₁选自由以下组成的群组：吲哚、喹啉、蝶啶及吖啶。

7.一种彩膜光刻胶，其特征在于：所述彩膜光刻胶包含：

一基材，包含一高分子树脂、一单体、一光引发剂及一溶剂；以及

一染料，包含：

一染料芯核；

一保护层，包覆在所述染料芯核外围，所述保护层由一耐热高分子聚合物所形成；及

一紫外光吸收剂，散布于所述保护层中。

8.如权利要求7所述的彩膜光刻胶，其特征在于：所述紫外光吸收剂的一吸收波长为420纳米以下。

9.如权利要求7所述的彩膜光刻胶，其特征在于：所述紫外光吸收剂由2,2’-二羟基-4-甲氧基二苯甲酮衍生物组成。

10.如权利要求7所述的彩膜光刻胶，其特征在于：所述紫外光吸收剂由下式IV所组成：

其中R₁选自由以下组成的群组：烷氧基、酯基、非共轭结构的直链烷烃、非共轭结构的支链烷烃、含烷氧基的直链或者支链烷烃、氟取代的烷烃衍生物、通过烷氧基以及酯基相连接的共轭结构、五元杂环化合物、六元杂环化合物、苯并杂环化合物及稠环杂环化合物；

其中，当R₁为烷氧基、酯基及氟取代的烷烃衍生物时，R₁的碳链长度为1至25；及

其中当R₁为五元杂环化合物时，R₁选自由以下组成的群组：呋喃、噻吩、吡咯、噻唑及咪唑；当R₁为六元杂环化合物时，R₁选自由以下组成的群组：吡啶、吡嗪、嘧啶及哒嗪；及当R₁为稠环杂环化合物，R₁选自由以下组成的群组：吲哚、喹啉、蝶啶及吖啶。