[发明专利]发光装置及其制造方法

权利要求书

1.一种发光装置，其特征在于，包括：

第一发光元件，用以发出一波峰不大于500纳米(nm)的第一光线；

第二发光元件，用以发出一波峰不大于500nm的第二光线；

反射围栏，位于该第一发光元件与该第二发光元件之间，并环绕该第一发光元件与该第二发光元件；以及

显色层，包括第一区域及第二区域；

其中，该第一区域覆盖该第一发光元件，并允许该第一光线直接通过，且该第二区域覆盖该第二发光元件，并将该第二光线转换成一波峰大于500nm的第三光线。

2.如权利要求1所述的发光装置，其中该第一区域包含透明材料，但不包含波长转换材料。

3.如权利要求1所述的发光装置，其中该第二区域包含透明材料及波长转换材料，该第二光线完全被该波长转换材料转换。

4.如权利要求1所述的发光装置，其中该显色层还包括第三区域，该发光装置还包括：

第三发光元件，用以发出一波峰不大于500nm的第四光线；

其中，该第三区域覆盖该第三发光元件，并将该第四光线转换成一波峰大于500nm的第五光线，该第五光线的波长与该第三光线的波长相异。

5.如权利要求1所述的发光装置，其中该显色层还包括：

光吸收区，位于该第一区域与该第二区域之间。

6.如权利要求1所述的发光装置，还包括：

黏合层，位于该显色层与该第一发光元件及该第二发光元件之间，以将该显色层黏合在该第一发光元件及该第二发光元件上。

7.一种发光装置的制造方法，包括：

设置第一发光元件及第二发光元件在第一暂时载板上，其中该第一发光元件用以发出一波峰不大于500nm的第一光线，该第二发光元件用以发出一波峰不大于500nm的第二光线；

形成反射围栏于该第一发光元件与该第二发光元件之间，其中该反射围栏环绕该第一发光元件与该第二发光元件；以及

粘贴显色层于该第一发光元件及该第二发光元件上，其中该显色层包括第一区域及第二区域，该第一区域覆盖该第一发光元件并允许该第一光线直接通过，且该第二区域覆盖该第二发光元件，并将该第二光线转换成一波峰大于500nm的第三光线。

8.如权利要求7所述的制造方法，在形成该反射围栏于该第一发光元件与该第二发光元件之间的步骤后，该制造方法还包括：

移除该反射围栏的一部分，以露出该第一发光元件及该第二发光元件。

9.如权利要求7所述的制造方法，其中设置该第一发光元件及该第二发光元件在该第一暂时载板上的步骤包括：

设置多个该第一发光元件及多个该第二发光元件在该第一暂时载板上；

其中，在粘贴该显色层于该第一发光元件及该第二发光元件上的步骤中，该显色层的该第一区域为长条形，以覆盖该些第一发光元件，而该第二区域为长条形，以覆盖该些第二发光元件。

10.如权利要求7所述的制造方法，其中在粘贴该显色层于该第一发光元件及该第二发光元件上的步骤后，该制造方法还包括：

倒置该第一发光元件、该第二发光元件、该反射围栏及该显色层的整体结构，并将倒置后的该整体结构设置在第二暂时载板上；以及

移除该第一暂时载板，以露出该第一发光元件及该第二发光元件。