[发明专利]一种薄膜晶体管及其制造方法

权利要求书

1.一种薄膜晶体管，包括衬底(1)、栅极(2)、栅介质层(3)、有源层(4)、漏极(5)、源极(6)、刻蚀阻挡层(7)、钝化层(8)、基底(9)、格栅(10)、微透镜(11)和反射片(12)，其特征在于：所述栅极(2)设置于衬底(1)顶部的中间位置，所述栅介质层(3)与衬底(1)底部的两侧和栅极(2)的顶部相叠加，所述有源层(4)的底部与栅介质层(3)的顶部交错叠加，所述漏极(5)和源极(6)分别位于有源层(4)顶部的两侧，所述刻蚀阻挡层(7)位于有源层(4)顶部的中间位置，且刻蚀阻挡层(7)顶部的两侧分别与漏极(5)和源极(6)相对一侧的底部相叠加，所述钝化层(8)与漏极(5)和源极(6)的顶部形成包裹覆盖状态，所述基底(9)位于衬底(1)内部的中间位置，多个所述格栅(10)位于基底(9)的内部，且格栅(10)呈均匀分布状态，三个所述微透镜(11)分别位于格栅(10)的右侧，所述反射片(12)位于格栅(10)的左侧。

2.根据权利要求1所述的一种薄膜晶体管，其特征在于：所述衬底(1)为玻璃基材、石英基材和耐高温柔性基材。

3.根据权利要求1所述的一种薄膜晶体管，其特征在于：所述格栅(10)的竖向截面形状为等边梯形，且格栅(10)之间的间距为30至60μm。

4.根据权利要求1所述的一种薄膜晶体管，其特征在于：所述反射片(12)的截面形状为矩形或者梯形，且单个反射片(12)位于两个微透镜(11)之间相邻的对面位置，两个所述反射片(12)之间的间距为24至32μm，且两个反射片(12)之间的空隙为透光区域。

5.根据权利要求1所述的一种薄膜晶体管，其特征在于，所述刻蚀阻挡层(7)和钝化层(8)制备方法包括以下重量份数配比的原料：环氧丙烯酸酯1.32-4.3g、聚氨酯丙烯酸酯6-7g、甲基丙烯酸甲酯4-8g、丙烯酸丁酯6-8g、丙烯酸羟乙酯2-7g、安息香乙醚3-5g、二苯甲酮1-3g、三乙醇胺0.5-1g、流平剂0.5-1.5g和光增感剂1-2g。

6.根据权利要求5所述的一种薄膜晶体管，其特征在于，所述刻蚀阻挡层(7)和钝化层(8)的制备方法包括以下步骤：

刻蚀阻挡层(7)的制备方法

1)环氧丙烯酸酯1.32g、聚氨酯丙烯酸酯6g、甲基丙烯酸甲酯4g、丙烯酸丁酯6g和丙烯酸羟乙酯2g放入玻璃盛放容器中；

2)添加无水乙醇进行混合，机械搅拌5分钟；

3)采用压板，对其进行预热至20-25摄氏度，由机械搅拌均匀的基料均匀涂覆至压板上，自然冷却制得刻蚀阻挡层薄膜；

钝化层(8)的制备方法

1)将安息香乙醚3g、二苯甲酮1g和三乙醇胺0.5g放入容器中，加入无水乙醇机械搅拌3分钟；

2)由容器中加入流平剂0.5g，采用手动搅动方式混合，同时加温至25摄氏度；

3)加入光增感剂1g，保持搅动至其处于饱和状态，制得钝化层流动液体。