[发明专利]具有过压阀的淋浴头有效
申请号: | 201910068872.4 | 申请日: | 2019-01-24 |
公开(公告)号: | CN110064537B | 公开(公告)日: | 2021-11-19 |
发明(设计)人: | F.梅勒 | 申请(专利权)人: | 汉斯格罗欧洲公司 |
主分类号: | B05B1/18 | 分类号: | B05B1/18;B05B1/30 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 杨倩;王丽辉 |
地址: | 德国希*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 淋浴 | ||
1.一种淋浴头,其包括
- 淋浴头壳体(1),
- 通入所述淋浴头壳体的流体入口(2),
- 离开所述淋浴头壳体的淋浴射流出口(3),
- 所述淋浴头壳体内的从所述流体入口到所述淋浴射流出口的流体管道(4),其中,在淋浴头的正常淋浴操作下淋浴头的使用期间,流体管道中的流体压力落入正常操作压力范围内,和
- 压力联接到所述流体管道的过压阀(5),所述过压阀(5)包括可移动的阀体(6),使所述阀体(6)在所述流体管道内过压状态的情况下从正常位置(NS)移动到过压位置(US),其中,流体管道中的流体压力高于正常操作压力范围,
其特征在于,
- 所述阀体(6)被构造成在所述过压位置(US)中自保持,从而在流体管道中不再存在过压状态时也保持在所述过压位置中,并且通过用户操作能返回到所述正常位置(NS),和/或
- 所述阀体(6)以取决于位置的方式作用在所述流体管道(4)的通道横截面(DQ)上,在淋浴头的正常淋浴操作下淋浴头的使用期间,流体通过所述流体管道(4)的通道横截面(DQ),其中,所述阀体相对于所述正常位置(NS)在所述过压位置(US)中减小所述通道横截面,从而减少通过淋浴头的流体的体积流量。
2.根据权利要求1所述的淋浴头,其特征还在于,
- 所述淋浴射流出口包括多个射流出口开口(19),
- 所述流体管道包括在所述射流出口开口上游的歧管腔室(20),以及
- 所述阀体作用在所述流体入口与所述歧管腔室之间的所述流体管道的通道横截面上。
3.根据权利要求1或2所述的淋浴头,其特征还在于,
- 所述阀体是柱形的并且能在所述淋浴头壳体内沿轴向方向(AR)移动,并且包括径向突出的环形轴环(8),所述环形轴环(8)包括至少一个阀通道开口(9),以及
- 所述流体管道包括阀腔室(10)、通向所述阀腔室的至少一个阀入口开口(11)、以及离开所述阀腔室的至少一个阀出口开口(12),在所述阀腔室(10)中所述阀体及其环形轴环被引导用于轴向移动,
- 其中,相对于所述正常位置,所述阀体通过其环形轴环在所述过压位置中减小所述至少一个阀通道开口的通道横截面。
4.根据权利要求3所述的淋浴头,其特征还在于,所述至少一个阀入口开口轴向延伸,并且所述至少一个阀通道开口轴向延伸并且在所述阀体的所述正常位置中与所述至少一个阀入口开口对齐。
5.根据权利要求3所述的淋浴头,其特征在于,所述过压阀包括中空柱形阀座体(13),所述阀体在所述中空柱形阀座体(13)上被保持引导,并且所述阀腔室位于所述中空柱形阀座体(13)中,其中,所述至少一个阀出口开口以径向方向分量向外延伸通过所述阀座体的柱形表面区段(13a)。
6.根据权利要求1或2所述的淋浴头,其特征还在于,所述淋浴头包括形成所述淋浴射流出口的射流盘(18),并且所述阀体位于所述淋浴头壳体的与所述射流盘相同的一侧上。
7.根据权利要求6所述的淋浴头,其特征还在于,所述阀体在所述过压位置中突出超过所述射流盘的外侧,并且在所述正常位置不突出超过所述射流盘的外侧。
8.根据权利要求1或2所述的淋浴头,其特征还在于,所述过压阀具有磁体布置结构(7),所述磁体布置结构(7)通过磁力(FM)将所述阀体保持在所述正常位置中,其中,随着所述阀体距所述正常位置的距离增加,所述磁力的强度减小到所述过压位置中的不相关值,不相关值是过压位置中的磁力的值且等于零或者小到不再能够使阀体自动地从其过压位置移动回到其正常位置。
9.根据权利要求1或2所述的淋浴头,其特征还在于,所述淋浴头是卫生淋浴头。
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