[发明专利]一种单涂层直接上机免处理CTP版

权利要求书

1.一种单涂层直接上机免处理CTP版，其特征在于：包括一版基，以及设于所述版基一侧表面的感光层，所述感光层按质量份包括热塑微乳胶颗粒35-45份、红外吸收剂15-28份、热聚合引发剂5-12份和抗氧化剂5-9份；

所述热塑微乳胶颗粒为纳微米级苯乙烯；

所述苯乙烯接枝引入有憎水基团；

所述憎水基团为烃基、-卤素、-NO₂、-CH₃ 、-(CH₂)N中的一种或多种；

所述苯乙烯共聚的聚合引发剂为过硫酸钾；

苯乙烯中含有不饱和键，可实现热聚合，通过接枝引入憎水基团来提高涂层的柔韧性和抗溶剂性能，共聚方式采用无规共聚，反应介质采用醇-水介质，共聚方式采用乳液聚合，共聚温度在60-90℃，加料方式采用部分原料滴加方式，通过控制反应物的浓度和滴加时间来控制微粒粒径的大小，反应物浓度降低，滴加时间延长，颗粒度将变小；

所述红外吸收剂为菁染料，所述菁染料需进行分子修饰，通过酯化反应先接枝十一碳烯酸后，再进行聚合反应；

采用十一碳酸烯酸进行酯化聚合，增加菁染料的分子结构，形成大分子。

2.如权利要求1所述的一种单涂层直接上机免处理CTP版，其特征在于：所述版基为铝版基。

3.如权利要求2所述的一种单涂层直接上机免处理CTP版，其特征在于：所述铝版基包含质量百分比为99.1-99.5%的铝、0.2-0.4%的铁、0.05-0.1%的硅、0.2-0.25%的镁、0.01-0.03%的锰、0.01-0.03%的铬和0.01-0.02%的锌。

4.如权利要求1所述的一种单涂层直接上机免处理CTP版，其特征在于：所述热聚合引发剂为三嗪类化合物。

5.如权利要求1所述的一种单涂层直接上机免处理CTP版，其特征在于：所述抗氧化剂为丁羟甲苯、二丁基羟基甲苯、丁基羟基茴香醚、二丁基羟基茴香醚、茶多酚、特丁基对苯二酚和苯乙烯基苯酚中的一种或者多种。