[发明专利]电浆镀膜装置

说明书

一种电浆镀膜装置。此电浆镀膜装置包含常压电浆产生器以及至少一进料治具。常压电浆产生器包含管状电极以及旋转喷嘴。旋转喷嘴设于管状电极的底部。旋转喷嘴具有电浆喷口以及外侧面，且外侧面的下部的外径由管状电极的底部往电浆喷口的方向渐缩。进料治具设于旋转喷嘴的外侧面的外围。进料治具包含至少一前驱物喷口。进料治具配置以经由前驱物喷口朝旋转喷嘴的外侧面的下部喷射镀膜前驱物。电浆喷口喷出电浆时会在电浆喷口附近形成低压区，镀膜前驱物被低压区吸引而顺着旋转喷嘴的外侧面的下部流至电浆喷口前来与电浆反应。借此，可解决旋转喷嘴及管状电极内部的镀膜原料污染问题，且可提升电浆的稳定度、镀膜作业的效率，进而可提高镀膜品质。

技术领域

本发明是有关于一种电浆装置，且特别是有关于一种电浆镀膜装置。

背景技术

大气电浆的应用非常广泛，其可应用在工件的表面处理、表面改质、以及镀膜上。特别是大气电浆中的喷射式电浆(plasma jet)。由于喷射式电浆的电浆密度高，且处理效果好、处理成本低，因此目前喷射式电浆已有很多的工业应用。

随着大气电浆技术的蓬勃发展，现已开发出旋转式的大气电浆设备，来增加大气电浆的处理面积、与降低被处理工件的温度，借以大幅提升大气电浆的处理速度，并提高大气电浆对工件材料的适用范围。

然而，目前市售的旋转式大气电浆设备只能使用空气、氮气等氧化性气体，若是要利用旋转式大气电浆设备来进行沉积或镀膜时便产生下列数个问题。首先，利用旋转式大气电浆设备来进行沉积或镀膜时，需提供沉积或镀膜的原料，但沉积或镀膜原料若跟着空气或氮气等工作气体一起进入电浆设备的内部时，容易在电浆设备的内部产生反应，而沉积或镀覆在电浆设备内，如此会造成电浆装置所产生的电浆不稳，也可能使电浆与沉积或镀膜原料提早反应而在电浆设备中就产生电浆聚合粉末，进而影响电浆镀膜的效率与品质。其次，为了改善前述问题，一些大气电浆技术是在电浆喷出口附近才加入沉积或镀膜原料。虽然这样的调整虽可确实解决此问题，但也因此使得大气电浆设备的喷嘴的旋转无法顺利运行，而使电浆处理面积受到局限。

发明内容

因此，本发明的一目的就是在提供一种电浆镀膜装置，其进料治具设于旋转喷嘴的外围，借此不仅可提供旋转电浆来进行大面积镀膜，并可降低被处理工件在镀膜时的温度，更可解决旋转喷嘴及其上的管状电极内部的镀膜原料污染问题，而可提升电浆的稳定度，进而可有效率地进行镀膜作业，提高镀膜品质。

根据本发明的上述目的，提出一种电浆镀膜装置。此电浆镀膜装置包含常压电浆产生器以及至少一进料治具。常压电浆产生器配置以产生电浆。常压电浆产生器包含管状电极以及旋转喷嘴。旋转喷嘴设于管状电极的底部。旋转喷嘴配置以在旋转状态下喷射电浆。旋转喷嘴具有电浆喷口以及外侧面，且外侧面的下部的外径由管状电极的底部往电浆喷口的方向渐缩。至少一进料治具设于旋转喷嘴的外侧面的外围，其中此至少一进料治具包含至少一前驱物喷口。此至少一进料治具配置以经由至少一前驱物喷口朝旋转喷嘴的外侧面的下部喷射镀膜前驱物。电浆喷口喷出电浆时会在电浆喷口附近形成低压区，镀膜前驱物被低压区吸引而顺着旋转喷嘴的外侧面的下部流至电浆喷口前来与电浆反应。

依据本发明的一实施例，上述的至少一进料治具的至少一前驱物喷口正对旋转喷嘴的外侧面的下部。

依据本发明的一实施例，上述的至少一进料治具包含环状接合部以及环状延伸部。环状接合部围设于管状电极及/或旋转喷嘴外，其中环状接合部并未与旋转喷嘴接触。环状延伸部自环状接合部的底部向下延伸，其中至少一前驱物喷口设于环状延伸部中。

依据本发明的一实施例，上述的环状延伸部具有环状流道，此环状流道与至少一前驱物喷口连通。

依据本发明的一实施例，上述的环状延伸部的底面高于旋转喷嘴的电浆喷口，且环状延伸部的底面与旋转喷嘴的电浆喷口的高度差等于或小于约2厘米。