[发明专利]表面处理设备的抽气通道结构及表面处理设备

权利要求书

1.一种表面处理设备的抽气通道结构，其特征在于，包括：

第一吸入通道，位于吸入侧，所述第一吸入通道由输出轴的下端的第一开口、上端的第二开口以及所述输出轴的内壁形成；其中，所述输出轴，用于被驱动单元驱动来带动所述表面处理设备的清洁转盘转动；

其中，在表面处理过程中，通过吸力将气流从所述第一开口引入所述第一吸入通道来形成负压，使得所述清洁转盘吸附于表面。

2.根据权利要求1所述的表面处理设备的抽气通道结构，其特征在于，所述抽气通道结构还包括：第二吸入通道，位于所述吸入侧与所述第一吸入通道之间，所述第二吸入通道由承载所述输出轴的壳体形成，所述第二吸入通道与所述第一吸入通道密闭连通。

3.根据权利要求2所述的表面处理设备的抽气通道结构，其特征在于，所述第二吸入通道由所述壳体的上壳体上且从所述第二开口向所述吸入侧延伸的气流凹槽和气流盖密闭连接形成。

4.根据权利要求2所述的表面处理设备的抽气通道结构，其特征在于，所述第二吸入通道从所述第二开口向所述吸入侧延伸且逐渐扩大。

5.根据权利要求2所述的表面处理设备的抽气通道结构，其特征在于，所述壳体还具有第三开口，以供驱动单元的输出端进入所述壳体并在所述壳体内与所述输出轴相连。

6.根据权利要求2所述的表面处理设备的抽气通道结构，其特征在于，所述输出轴的上部通过第一轴承与所述壳体的上壳体可转动地连接，所述输出轴的下部通过第二轴承与所述壳体的下壳体可转动地连接。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的表面处理设备的抽气通道结构，其特征在于，所述抽气通道结构包括N个所述第一吸入通道，每个所述第一吸入通道对应于一个所述清洁转盘，其中，N为大于或等于2的自然数。

8.根据权利要求2至6中任一项所述的表面处理设备的抽气通道结构，其特征在于，所述抽气通道结构包括N个所述第一吸入通道以及N个所述第二吸入通道，其中，每个所述第一吸入通道和所述第二吸入通道对应于一个所述清洁转盘，其中，N为大于或等于2的自然数。

9.根据权利要求2所述的表面处理设备的抽气通道结构，其特征在于，所述第一吸入通道与所述第二吸入通道之间的夹角小于180度。

10.根据权利要求1至6中任一项所述的表面处理设备的抽气通道结构，其特征在于，所述输出轴与所述清洁转盘固定连接，所述清洁转盘具有与所述第一开口对应的第四开口，通过吸力将所述清洁转盘的内壁与表面之间的气体经所述第四开口吸入所述第一吸入通道。

11.一种表面处理设备，其特征在于，包括如权利要求1至10中任一项所述抽气通道结构。