[发明专利]一种上料装置

权利要求书

1.一种上料装置，其特征在于，包括：

用以对玻璃(5)进行真空吸附的取料组件(1)；

用以盛放玻璃(5)、且朝向所述取料组件(1)的方向运动以实现所述取料组件(1)真空吸附玻璃(5)的盛放组件(3)；

与所述取料组件(1)相连、用以检测当所述取料组件(1)吸附玻璃(5)时产生的压力变化的传感器(8)；

用以获取所述盛放组件(3)位置的位置检测部(9)；

与所述传感器(8)和所述位置检测部(9)相连、用以当所述传感器(8)检测到压力变化时控制所述盛放组件(3)停止运行，并且获取所述位置检测部(9)记录的所述盛放组件(3)停止运行时的实际运行位置并控制所述盛放组件(3)根据实际运行位置以及相邻的两块玻璃(5)之间的间距执行后续吸附操作的控制器(10)。

2.根据权利要求1所述的上料装置，其特征在于，还包括：

与所述盛放组件(3)相连、用以控制所述盛放组件(3)朝向所述取料组件(1)的方向运动以实现所述取料组件(1)真空吸附玻璃(5)的驱动组件(2)。

3.根据权利要求1所述的上料装置，其特征在于，所述取料组件(1)包括竖直设置的竖直板(4)和设于所述竖直板(4)的表面、用以与玻璃(5)接触以实现真空吸附的真空吸盘(6)，所述真空吸盘(6)连接所述传感器(8)。

4.根据权利要求2所述的上料装置，其特征在于，所述驱动组件(2)包括与所述控制器(10)相连、用以控制所述盛放组件(3)朝向和远离所述取料组件(1)移动的伺服驱动器，还包括和所述伺服驱动器相连、用以向所述盛放组件(3)提供动力的伺服电机。

5.根据权利要求3所述的上料装置，其特征在于，两个所述真空吸盘(6)分布于所述竖直板(4)的下方。

6.根据权利要求2至5任意一项所述的上料装置，其特征在于，所述控制器(10)包括：

与所述传感器(8)、用以接收所述传感器(8)检测到的压力变化信号的接收部；

与所述接收部相连、用以当所述接收部接收所述传感器(8)检测到的压力变化信号时获取所述位置检测部(9)记录的所述盛放组件(3)的实际运行位置的获取部；

与所述接收部相连、用以当所述接收部接收所述传感器(8)检测到的压力变化信号时控制所述驱动组件(2)停止运行的控制停止部；

与所述获取部相连、用以将所述获取部获取的实际运行位置发送至所述驱动组件(2)的发送部。

7.根据权利要求6所述的上料装置，其特征在于，所述控制器(10)还包括用以记录相邻的两块玻璃(5)之间间距信息的存储部，所述存储部连接所述发送部，用以实现所述发送部将间距信息发送至所述驱动组件(2)。

8.根据权利要求7所述的上料装置，其特征在于，所述控制器(10)还包括：

与所述获取部、所述控制停止部和所述发送部相连、用以根据实际运行位置、间距信息以及吸附次数计算下一次所述盛放组件(3)的运行距离，并将运行距离发送至所述驱动组件(2)的计算部，以实现所述驱动组件(2)控制所述盛放组件(3)移动。

9.根据权利要求1至5任意一项所述的上料装置，其特征在于，所述盛放组件包括：

多根并排设置的间隔格算株杆(13)，任意相邻的两根所述间隔格算株杆(13)之间用以竖直放置多排玻璃(5)；

位于所述间隔格算株杆(13)的两端用以固定所述间隔格算株杆(13)的固定板(11)；

位于全部所述间隔格算株杆(13)的外侧，且连接两块所述固定板(11)的连接板(12)。

10.根据权利要求9所述的上料装置，其特征在于，所述传感器(8)具体为负压传感器，和/或所述控制器(10)具体为PLC控制器。