[发明专利]一种在Si/C复合材料上生长石墨烯的方法、利用该方法制得的材料以及其应用在审

专利信息
申请号: 201910082486.0 申请日: 2019-01-28
公开(公告)号: CN109742379A 公开(公告)日: 2019-05-10
发明(设计)人: 栾志博;李瑞君;李建英 申请(专利权)人: 哈工大机器人(岳阳)军民融合研究院
主分类号: H01M4/36 分类号: H01M4/36;H01M4/38;H01M4/583;H01M4/62;H01M10/052;C01B32/188
代理公司: 北京格允知识产权代理有限公司 11609 代理人: 张沫;谭辉
地址: 414000 湖南省岳阳市城陵*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 石墨烯 复合物 复合材料 化学气相沉积 氩气 氢气 生长 石墨烯薄膜 退火处理 再利用 甲烷 沉积 电芯 镍膜 铜膜 涂敷 应用 冷却
【权利要求书】:

1.一种在Si/C复合材料上生长石墨烯的方法,其特征在于,所述方法包括:

(1)利用化学气相沉积法在Si/C复合物上依次沉积镍膜和铜膜,得到Cu/Ni/Si/C复合物;

(2)将Cu/Ni/Si/C复合物置于氩气和氢气的环境下进行退火处理;

(3)再利用化学气相沉积法将经步骤(2)处理后的Cu/Ni/Si/C复合物置于甲烷和氢气的气氛下反应,再在氩气的保护下冷却至室温,从而在Si/C复合材料上生长出石墨烯。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在步骤(3)中,所述甲烷的流量为200~300标准毫升/分钟,所述氢气的流量为50~150标准毫升/分钟。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,在步骤(3)中,所述反应在1000~1100℃下进行。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在步骤(2)中,所述退火处理的条件为:

第一退火阶段:退火温度900~950℃,退火时间2~10小时;和

第二退火阶段:退火温度1000~1100℃,退火时间20~30小时。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在步骤(1)中,利用化学气相沉积法沉积镍膜的步骤包括:

将Si/C复合物放入反应室中,抽真空,同时加热至第一反应温度;

通入氩气,再通入气态羰基镍沉积镍膜。

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述第一反应温度为120~150℃。

7.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,在步骤(1)中,利用化学气相沉积法沉积铜膜的步骤包括:

向反应室内继续通入氩气,在持续通入氩气的条件下加热至第二反应温度,同时通入氢气和氯化铜蒸气沉积铜膜。

8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述第二反应温度为300~350℃。

9.一种带有石墨烯的Si/C复合材料,其特征在于,采用权利要求1至8任一项所述方法制备而成。

10.权利要求9所述的带有石墨烯的Si/C复合材料在锂电池负极材料中的应用。

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